ASML 下週公布 2025 年財報，市場樂觀看待 High-NA EUV 將帶動營運 |
作者
Atkinson|發布日期
2026 年 01 月 19 日 11:40 |
|
隨著全球半導體產業競逐更先進的製程節點，半導體微影設備大廠艾司摩爾（ASML Holding N.V.）正處於一場製造技術重大變革的核心。根據 Zacks 投資研究發布的最新分析報告， ASML 的 High-NA EUV（高數值孔徑極紫外光） 技術正取得顯著進展，不僅重新定義了邏輯晶片與 DRAM 的生產模式，更成為推動該公司 2026 年營收成長的關鍵引擎。因此，即將於 28 日公布的 2025 年第四季與 2025 年全年財報備受到市場的關注。
ASML EUV 壟斷難破解？中國半導體設備廠進擊與困局 |
|
作者
TrendForce 集邦科技|發布日期
2026 年 01 月 19 日 11:00 |
|
ASML 從 1990 年代中期開始，廣泛地與晶片製造商、工具製造商和材料製造商合作發表論文，並在當時引入整合模組化語言（Unified Modeling language，UML）的軟體架構，在高度抽象與複雜度的研發環境，讓內外部科學家與工程師有共同藍圖與溝通工具，憑藉內外部研發與整合能力，迅速增強競爭實力。 繼續閱讀..
台積電財測助攻？ASML 今日股價飆升，市值首度突破 5 千億美元 |
|
作者
TechNews 編輯台|發布日期
2026 年 01 月 15 日 18:20 |
|
ASML 今日股價創新高，市值首次突破 5 千億美元，主要受台積電（TSMC）2026 年強勁展望推動，上漲 7.6%，年初至今漲幅達 25%。 繼續閱讀..
開創生醫應用新局，imec 靠 ASML EUV 設備成功實現晶圓級奈米孔 |
|
作者
林 妤柔|發布日期
2025 年 12 月 22 日 13:33 |
|
比利時微電子研究中心（imec）已成功展示利用 ASML 最先進的極紫外光（EUV）微影設備，實現晶圓級規模的奈米孔製作技術。ASML 傳播主管形容，由於奈米孔在分子感測領域展現的巨大潛力，這是 ASML 設備「出乎意料卻非常令人驚豔的生醫應用」。 繼續閱讀..
ASML 成最強「卡脖子」環節，決定 AI 晶片產能天花板 |
|
作者
TechNews 編輯台|發布日期
2025 年 12 月 12 日 16:45 |
|
在當今的科技生態系統中，ASML的曝光機扮演著至關重要的角色，尤其是在人工智慧（AI）晶片的生產上。這家荷蘭公司以其極紫外光（EUV）系統聞名，這些系統使得晶圓廠能夠印刷出越來越小且複雜的電晶體圖案，這對於高效能的 AI 加速器和記憶體晶片至關重要。根據彭博社的報導，ASML 的技術幾乎在現代 AI 晶片行業中形成壟斷地位，使得它成為歐洲最有價值的公司。 繼續閱讀..
ASML 跨足半導體後段製造市場，為什麼能拓展全方位微影概念？ |
|
作者
Atkinson|發布日期
2025 年 11 月 27 日 11:30 |
|
隨著人工智慧（AI）晶片和高效能運算（HPC）需求的爆發，半導體產業正加速邁向異質整合與先進封裝的時代。傳統上，微影技術多聚焦於前端晶圓製造，然而，後段封裝所需的微影製程能力，已成為下一代系統單晶片（SoC）設計的關鍵瓶頸。為了解決晶片尺寸不斷擴大及晶圓翹曲（warpage）帶來的製程難題，全球微影設備領頭羊艾司摩爾（ASML）近日宣布推出新型微影機台 XT:260，大幅擴大了曝光場（Exposure Field）的範圍，顯著提升先進封裝製程的效率與良率。
