Tag Archives: DNP

供應給 Rapidus，傳 DNP 將量產 2 奈米晶片用光罩
作者 |發布日期 2024 年 03 月 27 日 10:50 |
line share
line share
分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

日本官民合作設立的半導體研發 / 製造 / 銷售公司（晶圓代工公司）Rapidus 目標在 2027 年量產 2 奈米（nm）晶片，而為了在日本國內打造最先進晶片供應鏈，日廠大日本印刷（DNP）傳出將在 2027 年度量產 2 奈米晶片用光罩，將供應給 Rapidus 使用。DNP 今日股價聞訊大漲。 繼續閱讀..

不用 EUV 也能直上 5 奈米，鎧俠與合作夥伴欲先導入量產
作者 |發布日期 2021 年 10 月 22 日 15:50 |
line share
line share
分類 IC 設計 , 晶片 , 會員專區

半導體製程技術進入 10 奈米節點後，EUV 曝光設備是不可或缺的步驟，但 EUV 曝光設備每台價格高達 1.5 億美元，且產量有限，讓晶片生產成本驟升。為解決問題，日本記憶體大廠鎧俠（Kioxia）聯合合作夥伴開發新技術，可不使用 EUV 曝光設備就直達 5 奈米。

繼續閱讀..