根據日經報導,大日本印刷(DNP)宣布開發出可支援 1.4 奈米邏輯製程的奈米壓印(Nanoimprint Lithography, NIL)模板技術,能大幅降低先進半導體製造的電力消耗,預計可將相關曝光流程所需能耗壓至傳統方式的約十分之一,並計劃自 2027 年起量產,並供佳能(Canon)NIL 設備應用。
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大日本印刷推出 1.4 奈米壓印模板,助 Canon 擴大先進製程 |
| 作者 蘇 子芸|發布日期 2025 年 12 月 10 日 11:00 | 分類 半導體 , 材料、設備 |




