美國國會持續推進對中國半導體設備管制。根據《路透社》報導,美國眾議院提出的「MATCH 法案」最新版本已縮減部分限制內容,但仍保留對荷蘭設備大廠 ASML 深紫外光(DUV)浸潤式微影設備的對中限制,並持續針對中芯國際、長江存儲與長鑫存儲等中國晶片廠設下供應門檻。 繼續閱讀..
美調整對中晶片設備法案,仍鎖 ASML DUV |
| 作者 蘇 子芸|發布日期 2026 年 04 月 17 日 7:42 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 國際觀察 |











