搶攻先進半導體製程商機,科磊宣布推出 5 種顯影控制系統

作者 | 發布日期 2017 年 09 月 12 日 18:37 | 分類 晶片 , 會員專區 , 處理器 follow us in feedly


為爭取新世代先進半導體製程商機,半導體檢測大廠美商科磊(KLA-Tencor)公司於 12 日宣布,針對 7 奈米以下的邏輯和記憶體設計節點,推出 5 款顯影成型控制系統,幫助晶片製造商實現多重曝光技術和極紫外線(EUV)微影所需的嚴格製程公差。

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