控制半導體製程汙染專家,英特格確定與三大半導體廠合作

作者 | 發布日期 2019 年 10 月 19 日 12:00 | 分類 國際貿易 , 晶圓 , 晶片 follow us in feedly


目前物聯網、工業自動化、人工智慧、自動駕駛、5G 通訊等新科技逐漸普及的情況下,帶動半導體成長,並使晶片需求大幅提升。為了迎接這些挑戰,導入新的材料增加效能,以延續摩爾定律過程,材料技術不斷演進,且應用的材料本質也開始改變。特用化學原料暨先進科技材料龍頭供應商英特格(Entegris Inc.)即透過運用科學為基礎,以提供解決方案,併協助半導體客戶在先進製程應對各種挑戰。

英特格技術長 James O’Neill 指出,英特格成立迄今已經有 50 年歷史,去年整體營收達 16 億美元(約新台幣 494 億元)。而在當前新的材料、晶片、形狀都與過去不同,對於半導體製程來說都是很複雜的挑戰。舉例來說,從 28 奈米轉換到 7 奈米,複雜程度是過去的兩倍。技術要驗證得要更快,所以整個生產週期時間都是更短的。這也表示我們在採用先進製程時,要達成較佳的良率更為困難,產業的重點就在於如何快速達到好的良率。這也就是英特格的優勢所在。

James O’Neill 表示,要提高良率重點之一是汙染控制,從 28 奈米到 7 奈米,對於金屬雜質容忍程度已經減少 1,000 倍,而晶圓致命微粒則縮小將近 4 倍,這點非常重要,因為只要雜質或微粒等污染的容忍程度有了細微變動,對晶圓廠獲利都會造成很大的影響。整個半導體生態系中,每個步驟都要顧慮汙染控制,包括工廠中怎麼製作和包裝化學品、如何運送與在工廠中使用與儲存,每個步驟都相當重要。英特格有各項產品和解決方案,確保整個製程、輸送時不受汙染。

James O’Neill 進一步強調,因為蝕刻技術的大幅進步,現在半導體廠開始導入的是極紫外光 EUV 設備及技術。而英特格在 EUV 製程的汙染控制與光罩盒是市場領導者,旗下的過濾技術能確保材料放在 pattern 維持潔淨度。此外,半導體製程中,運用 EUV 的光蝕刻技術可再進一步細分成好幾個步驟,這使得英特格不僅提供光罩盒,還有特殊化學品、過濾器、過濾技術,以及製程各方面需要的材料和汙染控制,惟有英特格能夠提供最廣泛的解決方案。

James O’Neill 也證實,因為目前全球半導體廠僅 3 家晶圓代工廠,包括台積電、三星及英特爾有能力持續推進先前製程,尤其龍頭台積電預計 2020 年將開始量產 6 奈米,以及更加先進的 5 奈米製成,帶動台灣未來的導體業樂觀前景。而因此,英特格確定與這 3 家廠商合作,持續提供相關解決方案給客戶,以滿足在先進製程的需求。

(首圖來源:shutterstock)