Tag Archives: 光學技術

半導體產業爭霸賽誰能勝出？關鍵仍在光學技術
作者 |發布日期 2020 年 02 月 05 日 8:45 |
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分類 光電科技 , 材料、設備 , 零組件

荷蘭政府近日根據瓦森納國際協議（Wassenaar Arrangement），禁止 ASML 公司向中國出口極紫外光刻機（Extreme Ultraviolet，EUV Lithography）；中國駐荷蘭大使反嗆要以中荷關係為要脅，要求荷蘭政府取消禁令。光刻設備是半導體製程中最重要的設備，全球又僅有 ASML 能提供最高階的光刻設備，美國要求荷蘭政府禁止 ASML 向中國輸出這設備，可說是掐住中國半導體產業的咽喉。半導體產業爭霸賽的關鍵，無疑就是光刻設備需要仰賴的「光學技術」。

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Nikon 狀告 ASML 與夥伴 Carl Zeiss 侵權 半導體設備市場掀波瀾
作者 |發布日期 2017 年 04 月 25 日 8:30 |
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分類 光電科技 , 晶片 , 會員專區

根據 《路透社》 的報導，日本光學大廠尼康（Nikon） 於 24 日表示，已對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML Holding NV）和合作夥伴卡爾蔡司（Carl Zeiss AG）提起法律訴訟，並表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經 Nikon 的許可下將其微影（lithography）技術專利用於光刻機上，並運用在半導體製造業中。

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3M 光學顯示技術四大亮點，展現智慧顯示全方位解決方案
作者 |發布日期 2016 年 08 月 24 日 17:15 |
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分類 市場動態 , 零組件 , 面板

隨家庭娛樂、物聯網與遊戲產業持續蓬勃發展，全球顯示器、面板產業也因此開創多元應用情境與智慧顯示需求。美商 3M 台灣透過四大亮點光學技術，在產業界重要盛會 Touch Taiwan 智慧顯示與觸控展覽，展現光學與顯示材料上的創新科技實力，力助台灣面板廠拓展全球顯示器市場。

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