三星搶 EUV 頭香，7 奈米拚 2017 年底量產

三星希望領先業界，成為首家引進極紫外光（EUV）量產設備的晶圓代工廠。EUV 微影技術被三星視為是下一世代先進製程的關鍵，三星打的如意算盤是藉由 EUV 微影技術領先，以超越台積電、英特爾等競爭對手。

三星團隊今年初就營運策略展開診斷，原訂於 3 月完成，但為求詳細，因此又多花了一個月的時間，而其致勝結論是不斷衝刺先進製程，以及客戶多元化分散風險。

據 ETnews.com 報導，三星近期將從半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）採購 NXE3400 機台，也就是量產型 EUV 微影設備，預計 2017 年第二或第三季裝設完工後，於年底開始用於量產 7 奈米晶片，這將是三星首度在量產線上採用 EUV 設備。

報導指出，台積電目前還沒有在晶圓量產線上引進 EUV 設備的計畫，但三星認為只有 EUV 才能完美實現 7 奈米技術，並計劃以此為賣點向客戶推銷。三星近期舉辦論壇，已經開始對客戶宣傳本項計畫。

（本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載；首圖來源：達志影像）