高通擁抱三星 EUV 製程，搶攻 5G 行動晶片

三星、高通週四宣布擴大晶圓代工業務合作，包含高通下一代 5G 行動晶片，將採用三星 7 奈米 LPP（Low-Power Plus）極紫外光（EUV）製程。

新聞稿指出，透過 7 奈米 LPP EUV 製程，驍龍（Snapdragon）5G 晶片組可減少占位空間，讓 OEM 廠有更多使用空間增加電池容量或做薄型化設計。除此之外，結合更先進晶片設計，將可明顯增進電池續航力。

三星 7 奈米製程首度導入極紫外光微影技術，預期可藉此突破摩爾定律（Moore’s Law）。對照 10 奈米 FinFET 製程，三星 7 奈米 LPP EUV 工序較少、良率較高，且效能提高一成，耗電減少最多 35%。

另外，三星 7 奈米廠本週五將動土，預計最快明年量產，但預料應該趕不上當年度 Galaxy S10 與 Note 10 的上市時程。（androidheadlines）

（本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載；首圖來源：三星）

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