
全球半導體微影技術廠商艾司摩爾(ASML)今日舉行「EUV(極紫外光)全球技術培訓中心」開幕典禮。培訓中心坐落台南科學園區,占地 1,625 平方公尺,配備實機模組(live module),提供技術理論課程和無塵室實機操作課程等多元化培訓內容,總投資金額達 1,350 萬歐元(約新台幣 4.74 億元)。目前配置 14 位講師,估計每年可提供數千小時課程,為 ASML 和客戶培育 360 位 EUV 技術工程師。培訓中心設立後,ASML 在台灣的研發團隊人數也預計 3 年內由原本 280 人提升至 500 人。