繼三星後，SK 海力士宣布 2021 下半年採 EUV 生產 1a 奈米製程 DRAM

根據國外媒體報導，荷蘭曝光機生產大廠艾司摩爾（ASML）是目前全世界唯一生產極紫外光曝光設備（EUV）的廠商，用於先進半導體製程，也就是 7 奈米以下製程扮演關鍵性角色，包括台積電及三星都用來生產先進處理器（CPU）及繪圖晶片，另外三星也用在記憶體 DRAM 製造。為了追上三星腳步，南韓另一家記憶體大廠 SK 海力士（SK Hynix）也宣布，預計自 2021 下半年開始量產採 EUV 技術的 DRAM。