這設備 30 年前問世至今仍在使用,助 ASML 登上半導體微影曝光龍頭

作者 | 發布日期 2021 年 05 月 16 日 10:30 | 分類 IC 設計 , 晶圓 , 晶片 Telegram share ! follow us in feedly


不論是極紫外光微影曝光設備 (EUV) 或是深紫外光微影曝光設備 (DUV),當前都被廣泛用在邏輯晶片與記憶體生產上,可說是當前半導體製程中不可或缺的關鍵設備。而在這些設備的生產當中,荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 則在其中扮演了至關重要的角色。只是,當時落後競爭對手的 ASML,如何能成為今天半導體微影曝光設備上的霸主,其關鍵就在當年的 PAS 5500 機台上。

ASML 表示,1991 年 ASML 首部 PAS 5500 機台完成出貨之後,直到今天,PAS 5500 仍是 ASML 最長青的微影設備,也是 ASML 用途最廣泛的產品線之一。當時在 PAS 5500 出貨之前,ASML在 半導體微影市場位居第三,遙遙落在競爭對首 Nikon 和 Canon 之後。然而, PAS 5500 的成功很快的讓 ASML 晉升第二大微影設備商,並為 ASML 日後在微影市場的全球發展打下基礎。

至於,為什麼叫做 PAS 5500 呢?PAS 5500 來自 1970 年代,當時飛利浦的研究員開始實驗一系列的設備,而 PAS 5500 的全名 「the Philips Automatic Stepper (PAS)」。而為了紀念這部機台的來源,也代表 ASML 與飛利浦長期的合作關係,因此取名為 PAS 5500。​

ASML 強調,問世的 30 年後,每部 PAS 5500 都在半導體製程中擁有自己的故事。舉例來說,已經 25 歲的 PAS 5500/275,多年來被應用在記憶體 (Memory) 以及 RF 模組 (Radio Frequency Module) 製程中,但它最近剛被翻修,並重新販售到 VR 技術製程的最前線,展開新生活。僅管 PAS 5500 已經不再被應用在最先進的製程中,但它們具備成本低、體積小、簡單以及穩定性,在許多利基 (Niche) 應用市場中是首選設備。為了持續支援使用這部機台的客戶,當前 ASML 已將相關的客戶支援服務期限延後至 2030 年以後。

(首圖來源:ASML)