Tag Archives: 微影曝光

ASML 2022 年財報優於市場預期，2023 年還將成長 25%

作者 Atkinson|發布日期 2023 年 01 月 25 日 16:45 |

分類半導體 , 材料、設備 , 財報

微影曝光設備大廠艾司摩爾 (ASML) 於台北時間25日發布了 2022 年第四季及全年財報。其中，包括 2022 年第四季及全年財報，以及針對 2023 年第一季的營運展望都優於市場預期。

ASML 第三季營收 58 億歐元優於預期，EUV 客戶都已訂高數值孔徑設備

作者 Atkinson|發布日期 2022 年 10 月 19 日 16:40 |

分類半導體 , 材料、設備 , 財報

微影曝光設備龍頭艾司摩爾 (ASML) 發表 2022 年第三季財報，銷售淨額 (net sales) 為 58 億歐元，淨收入 (net income) 17 億歐元，毛利率 (gross margin) 為 51.8%，第三季訂單金額再創新高，到 89 億歐元。

光學大廠 ASML 在台培育人才，引進光學藝術課程嘉惠偏鄉

作者 Atkinson|發布日期 2022 年 08 月 30 日 17:40 |

分類人力資源 , 半導體 , 材料、設備

全球半導體微影技術廠商艾司摩爾（ASML），正式引進與荷蘭梵谷博物館共同設計的「光學藝術課程」，並與天下雜誌教育基金會，以及均一教育平台合作，打造結合線上、線下的全方位體驗式學習，從科學連結藝術，激發跨領域學習潛能。

這設備 30 年前問世至今仍在使用，助 ASML 登上半導體微影曝光龍頭

作者 Atkinson|發布日期 2021 年 05 月 16 日 10:30 |

分類 IC 設計 , 晶圓 , 晶片

不論是極紫外光微影曝光設備 (EUV) 或是深紫外光微影曝光設備 (DUV)，當前都被廣泛用在邏輯晶片與記憶體生產上，可說是當前半導體製程中不可或缺的關鍵設備。而在這些設備的生產當中，荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 則在其中扮演了至關重要的角色。只是，當時落後競爭對手的 ASML，如何能成為今天半導體微影曝光設備上的霸主，其關鍵就在當年的 PAS 5500 機台上。