力拚台積電,三星宣布 3 奈米 GAA 成功流片 作者 Atkinson | 發布日期 2021 年 06 月 29 日 16:15 | 分類 IC 設計 , Samsung , 晶圓 | edit 技術論壇時台積電強調 3 奈米製程將照時程於 2022 下半年正式量產,競爭對手南韓三星日前也表示,採用 GAA 架構的 3 奈米製程技術正式流片(Tape Out),對全球只有這兩家能做到 5 奈米製程以下的半導體晶圓代工廠來說,較勁意味濃厚。 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: FinFET , GAA , 三星 , 台積電 , 新思科技 , 英特爾