韓媒：追趕台積電，三星李在鎔訪 ASML 取得額外 EUV

南韓媒體報導，三星電子副董事長李在鎔將從荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 取得額外極紫外微影曝光設備 (EUV)，對三星下一代半導體生產至關重要。不過三星沒有透露這些額外 EUV 微影曝光設備細節。

南韓媒體《BusinessKorea》報導，三星 15 日表示，李在鎔在半導體事業暨裝置解決方案事業部 (DS) 部長慶桂顯陪同，當地時間 6 月 14 日在荷蘭 Veldhoven 的 ASML 總部會見 ASML 執行長 Peter Wennink 和技術長 Martin van den Brink 等高層，雙方就未來半導體技術、半導體市場前景、EUV 微影曝光設備供應以及未來中長期業務廣泛討論。

三星需確保 EUV 微影曝光設備穩定供應，才能超越台積電，成為全球晶圓代工龍頭。目前 EUV 設備被 ASML 壟斷，年產量有限，三星想取得比 ASML 最大客戶台積電更多設備並非易事。

2000 年代以來，三星一直與 ASML 合作半導體製程技術和設備開發。2012 年三星投資 ASML 股權，加強與 ASML 的關係。2016 年 11 月 ASML 高層拜訪三星，說明下一代 EUV 微影曝光技術發展，並就中長期投資計畫發表意見。

李在鎔出訪荷蘭期間，14 日也會見荷蘭首相。三星表示，雙方討論加強半導體代工能力和解決全球半導體供應鏈合作。三星強調，李在鎔請求荷蘭首相支援，確保 ASML 的 EUV 微影曝光設備穩定供應。

(首圖來源：三星)