南韓開發石墨烯 EUV 光罩護膜,瞄準台積電、三星、英特爾潛在客戶

作者 | 發布日期 2022 年 12 月 15 日 17:10 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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南韓開發石墨烯 EUV 光罩護膜,瞄準台積電、三星、英特爾潛在客戶

南韓媒體報導,一家南韓小公司開發出新材料,有望顯著提高荷蘭半導體設備公企業艾司摩爾 (ASML) 極紫外光微影曝光設備 (EUV) 良率。

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