三星解密 1.4 奈米製程,增加奈米片提升效率並降低功耗

作者 | 發布日期 2023 年 10 月 31 日 15:45 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 line share follow us in feedly line share
三星解密 1.4 奈米製程,增加奈米片提升效率並降低功耗


2022 年三星 Samsung Foundry Forum 2022 公布先進製程藍圖,SF1.4(1.4奈米)2027 年量產,加速開發 2.5D / 3D 整合異質結構封裝,為代工服務提供整體解決方案。近日三星代工副總裁 Jeong Gi-Tae 接受媒體採訪時透露,正在開發 SF1.4 製程將奈米片數量從三個加到四個,有望顯著改善性能和功耗。

三星希望藉增加每個電晶體奈米片數量,強化驅動電流、提高性能,更多奈米片允許更高電流通過電晶體,增強開關能力和操作速度。更多奈米片也更能控制電流,有助減少漏電現象,降低功耗。改善電流控制,代表電晶體會產生更少熱量。

三星 2022 年 6 月宣布量產 SF3E(3 奈米 GAA)後,導入全新 GAA(Gate-All-Around)架構,2024 年則帶來 SF3(3 奈米 GAP)第二代 3 奈米製程,使用第二代多橋通道場效應電晶體(MBCFET),在原有 SF3E 基礎上性能再最佳化,之後還會有性能增強型 SF3P(3GAP+),適合製造高性能晶片。到 2025 年,三星會大規模量產 SF2(2 奈米)製程。

台積電也計畫 2025 年量產 N2(2 奈米),英特爾爭取 2024 年量產 Intel 20A,兩款都導入 GAA 架構電晶體。屆時可看到晶圓代工市場龍爭虎鬥。

(首圖來源:三星)