Pat Gelsinger：英特爾委外代工不可缺，Intel 18A 不用 High-NA EUV

日前，英特爾執行長 Pat Gelsinger 在財報會議回應了分析師有關外部代工與 High-NA EUV 應用的提問時表示，外部代工仍是英特爾不可或缺的一環。另外，已經獲得業首套 High-NA EUV 曝光機的英特爾，將會在比Intel 18A 節點製程更先進的製程中來使用。

外電報導，Pat Gelsinger 表示，雖然未來外部代工量會減低，但其仍是英特爾晶圓製造發展路線中不可或缺的一部分。他強調，隨著自家晶圓廠「四年五節點」策略的穩健發展，自家的製程技術競爭力也隨之提升，這使得英特爾未來將會有更多產品採用自有晶圓廠製造。

但是即便如此，使用外部代工廠來進行委外代工，也一直將是英特爾發展策略的重要部分。所以，英特爾將繼續保持使用委外代工的推進，這樣研發團隊就始終可以使用業界領先的技術來生產產品。而在被問及 High-NA EUV 霧光機應用的問題時，Pat Gelsinger 則是強調，不會在 Intel 18A 節點製程使用 High-NA EUV 曝光機，而是留到下一個更先進的節點製程上。

Pat Gelsinger指出，英特爾不會將 High-NA EUV 曝光機導入 Intel 18A 節點製程在於導入時風險。Pat Gelsinger 表示重新將英特爾製程推至世界領先過程，風險管控是重要一環，延遲 High-NA EUV 曝光機應用。Pat Gelsinger 還確認，2 月 21 日首次舉行 IFS Direct Connect 活動，將透露更多 High-NA EUV 曝光機資訊。

(首圖來源：科技新報攝)