台積電談先進製程「日出時刻」:CFET、3D 堆疊、矽光子新進展

作者 | 發布日期 2024 年 02 月 22 日 7:04 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 line share follow us in feedly line share
台積電談先進製程「日出時刻」:CFET、3D 堆疊、矽光子新進展


台積電業務開發資深副總裁張曉強(Kevin Zhang)在國際固態電路大會 ISSCC 2024  介紹公司最新技術,並分享未來技術演進、對於先進製程展望,以及各領域中所需要的最新半導體技術。

張曉強指出,隨著 ChatGPT、Wi-Fi 7 出現,已經需要大量半導體,我們也進入半導體高速成長期。在車用部分,汽車產業正經歷一場革命,許多人說新的汽車將是定義軟體,但他覺得是「定義矽」,因為軟體需要在矽上運作,推動未來的自動駕駛能力。

CFET 

在技術部分,過去半導體圍繞在尺寸縮小,但現在是圍繞在架構創新及使用新材料,從 16 奈米的 FinFET 轉到如今 2 奈米的 Nano Sheet,這高性能運算非常重要,也是很大的架構創新,那下一個呢?答案是:CFET。

張曉強表示,CFET(互補式場效電晶體 CFET)是將 nMOS和 pMOS 垂直堆疊,可大幅改善零組件電流,使電晶體密度提升 1.5~2 倍。

這項技術將矽(Si)和鍺(Ge)等不同材料從上下方堆疊,使 p 型和 n 型的場效電晶體更靠近。透過這種疊加方式,CFET 消除 n to p 分開的瓶頸,將運作單元活動區域(cell active area)面積減少 2 倍。

或者,從低維材料(如 2D 材料)這類新材料努力,來打造效能更高的開關元件,遠超出現今的元件或是電晶體。

張曉強也展示台積電已經在實驗室成功做出 CFET 架構,「這是在實驗室做出來真正的整合元件,可以看到曲線多麼漂亮,這在推動電晶體架構的創新上是一大里程碑」。

然而,隨著電晶體尺寸縮小會變的越來越困難,也越來越貴,需要製程研發團隊與設計研發合作,才能達到最佳效益,這稱之為「設計協同優化」(DTCO),並推出 FINFLEX 技術,讓晶片設計人員能選擇、混搭最佳的鰭(Fin)結構,來支援每一個關鍵功能區塊,以達到最佳效能、密度及功耗。

提到 DTCO,另一個例子就是「靜態隨機存取記憶體」(SRAM)。SRAM 從 130 奈米縮到目前的 3 奈米,台積電實現 100 倍的密度改善,就是製程創新和採用更先進設計的結合。

無論如何,技術尺寸微縮的目標就是為了「高效能運算」,張曉強表示,在整個半導體產業,我們(台積電)走了很長的路,這種進步使今天 AI 的出現成為可能。

HPC /AI 技術平台:3D 堆疊、矽光子、CPO

無論是 GPU、TPU 或客製化 ASIC,都採用這個特定的整合方案,目前主流是 2.5D 封裝,但為了應對未來高效能運算需求,這個平台還需要大幅提升,並需要更高密度、更低功耗運算,因此需要「堆疊」,包括將很多記憶體頻寬、HBM 帶入封裝,同時將考慮電源供應、I/O 和頻寬的互連密度等問題。也因此,張曉強表示將「矽光子帶進封裝」是未來方向,但這還將面臨諸多挑戰,如共封裝光學(CPO)技術等。

▲ 上下圖為目前及未來 HPC/AI 技術平台。(Source:影片截圖)

1. 3D 堆疊

談到 3D 堆疊,張曉強展示一張圖,並表示為達到更高的互連密度(Interconnect Density),即Chip To Chip 連結,透過 3D 堆疊可以使接合的 Pitch 一路縮小到幾微米,實現「單晶」(Monolithic)的互連密度,「所以 3D 堆疊才是未來」。

▲ 圖為不同製程帶來的不同互連密度。(Source:影片截圖)

2. 矽光子/共封裝光學(CPO)

張曉強指出,電子擅長運算,但光子在訊號或溝通時比較好。他舉例,如果全都用電子並採用銅線材質的系統,會燒掉 2,400 W,目前解決方案是採用插拔式模組,可省下 40% 功耗(> 1500W),但隨著未來需要更高速訊號、更大頻寬,這遠遠不夠,因此需要把矽光子技術把光子能力帶進來。

在圖示中,需要用先進堆疊技術,把光子晶片和電子晶片堆疊,可使功耗可再降低 50%,約 5 皮焦耳(picojoules per bit),使功耗約在 850W。

車用技術

1. 追求低 DPPM

從根本上看,最新的汽車技術需要大量運算能力,但功耗正成為問題,尤其是由電池供電的車。張曉強認為,車用半導體技術在導入上一直落後消費性或 HPC 幾個世代,是因為非常需要嚴格的安全性要求,汽車應用的 DPPM(缺陷率)必須接近零,也因此晶圓廠、半導體製造和汽車設計人員必須更密切地合作,以加快這個速度。他也對大家承諾,「你們很快就會看到 3 奈米導入車用」。

2. MRAM/RRAM

MCU 在汽車轉型為區域架構後變更重要,也需要先進半導體技術給 MCU 提供運算能力。傳統 MCU 大都採浮動閘極(floating gate)為基礎的技術,但浮動閘極技術在 28 奈米以下就卡關,所幸業界已經投資新的記憶體技術,包括新的非揮發性記憶體如磁性隨機存取記憶體(MRAM)或電阻式記憶體(RRAM)。也因此,從 MCU 轉移到 MRAM、RRAM為基礎的技術,有助於推動技術持續微縮,從 28 奈米縮小到 16 奈米、甚至是 7 奈米。

感測器及顯示器:CIS(CMOS 影像感測器)

感測器技術從最簡單的 2D 設計、單層設計,到現在 3D 晶圓堆疊的智慧系統,基本上將訊號處理層疊在感測層上。張曉強也表示「我們技術已經開始投資、研究多層設計的技術」。

進行三層或多層設計能追求畫素最佳化,繼續推動畫素尺寸縮小同時兼顧解析度需求,也能同時達到最佳感測能力;另個例子是 AR、VR,透過將不同層的記憶體分開,再堆疊到其他邏輯晶片,可有效縮小尺寸,同時維持高效能需求。

最後張曉強分享自己的故事,他表示 7 年前離開當時最大的半導體公司,去了台灣。他離開的時候心想,他的半導體黃金時代已經過去了,去亞洲是要迎接職涯的日落時刻,但時間快轉 7 年後,他表示「我沒看到日落,而是明亮的日出。隨著 AI 出現,半導體將驅動許多新應用,觸及人類生活每一個面向,並改變人類歷史的軌跡,所以我看到明亮、黃金的全新時刻,我們最好的日子還在前頭,讓我們一起努力使其成真」。

(首圖來源:台積電

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