High-NA EUV 設備「初光」里程碑！英特爾、ASML 稱主要元件已啟動
作者 | 發布日期 2024 年 02 月 29 日 10:16 | 分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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High-NA EUV 設備「初光」里程碑！英特爾、ASML 稱主要元件已啟動

綜合外媒報導，ASML 與英特爾本週宣布達成重要里程碑，其最先進 High-NA EUV 曝光機 Twinscan EXE：5000 的主要元件已經啟動，即首度打開光源並使光線到達晶圓上的抗蝕層，並開始運作，表示光源和反射鏡已正確對準。這是啟動過程中的關鍵一步，儘管尚未達到峰值性能。

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