搶攻 HBM 美光砸錢擴充日本產能、後年下半裝機

作者 | 發布日期 2026 年 07 月 06 日 8:40 | 分類 半導體 , 國際貿易 , 記憶體 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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搶攻 HBM  美光砸錢擴充日本產能、後年下半裝機

美國記憶體大廠美光(Micron Technology)的日本廣島縣廠房擴建工程週六(7 月 4 日)舉辦了破土儀式,準備擴充先進記憶體晶片產能。

Seeking Alpha、日本放送協會(NHK World)等外電報導,這座位於廣島縣東廣島市的廠房目前為美光生產DRAM。美光將為本次擴充行動投資1.5兆日圓(約93億美元),而日本經濟產業省則會提供最多5,360億日圓(約33億美元)的補貼。

美光表示,興建計畫會分階段推進,半導體製造設備的進場安裝作業則預定於2028年下半年展開。

美光執行長Sanjay Mehrotra在動土典禮上表示,「美光史上第一片HBM生產晶圓,正是誕生在廣島這片土地上」。

美光2013年併購當時已破產的日本DRAM製造商爾必達(Elpida Memory)之際,就將上述廠房納入麾下。廠房擴充後,預計將協助美光生產次世代關鍵晶片,例如輝達(Nvidia)等大廠製造AI處理器時需要的高頻寬記憶體(HBM)。

美光正在愛達荷州博伊西(Boise)興建兩座最先進的晶圓廠,其位於紐約州雪城(Syracuse)郊區、總投資額高達1,000億美元的超級生產基地,今年1月也舉行了動土典禮。與此同時,韓國的SK海力士(SK Hynix)與三星電子(Samsung Electronics)也在大舉擴張產能。

美光6月24日公布財報時預測,第四季度(6-8月)資本支出將達約100億美元,超出分析師原先預估的88.9億美元。美光已與資料中心營運商、汽車製造商等客戶簽署了16份長期協議(LTA),鎖定未來三到五年的銷售表現。

展望未來,執行長Mehrotra當時在財報電話會議表示,DRAM與NAND型快閃記憶體的供需吃緊狀態,都將延續至2027年過後。

(本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載;首圖來源:美光

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