英特爾 (Intel) 近日宣布,已經接收市場首套具有 0.55 數值孔徑(High-NA)的 ASML 極紫外(EUV)曝光機,將協助其在未來幾年大成更先進的晶片製程技術。與之形成對比的是,台積電當前則視似乎按兵不動,並不急於加入這場下一代曝光技術的競賽。市場分析師預計,台積電可能要到 1.4 奈米 (A14),或是更晚的 2030 年之後才會採用這項技術。
英特爾拿下首套 High-NA EUV,威脅台積電龍頭地位? |
作者 Atkinson|發布日期 2024 年 01 月 08 日 7:30 | 分類 IC 設計 , 公司治理 , 半導體 |