Category Archives: 材料、設備

開發「光颶風」編碼更多數據，新方法使光纖數據傳輸量提高 16 倍
作者 |發布日期 2024 年 11 月 14 日 13:00 |
line share
Linkedin share
line share
分類 尖端科技 , 材料 , 材料、設備

現代通訊很大程度上依賴將資訊編碼到各種載體再傳輸，用雷射對資料進行編碼並透過光纜發送是最常見方法之一，然而隨著傳輸需求增長，我們迫切需要更有效率的編碼技術。最近，芬蘭阿爾托大學團隊開發一種透過準晶體產生「光颶風」將更多數據編碼到光的方法，能將光纖數據傳輸速率提高多達 16 倍。 繼續閱讀..

大量採購造成衝擊，2025 年中國半導體設備市場衰退
作者 |發布日期 2024 年 11 月 07 日 15:00 |
line share
Linkedin share
line share
分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

根據日經亞洲的報導表示，預計中國半導體設備市場在 2025 年將呈現衰退的情況。造成此狀況的原因，在於因為先前美中緊張局勢升溫之際，中國相關企業提前採購，造成市場大量庫存與積極提升，而 2025 年將回歸市場正常狀態所致。

繼續閱讀..

三大曝光機廠均下修業績，只憑台積電難力挽半導體復甦
作者 |發布日期 2024 年 11 月 02 日 15:30 |
line share
Linkedin share
line share
分類 半導體 , 材料、設備 , 財報

繼日前半導體曝光機大廠艾司摩爾 (ASML)、佳能 (Canon) 相繼下修年度財測目標後，另一家曝光機廠商尼康 (Nikon) 近日也宣布下修年度財測目標。所以，即使半導體製造龍頭台積電 2024 年第三季繳出亮眼成績，但單憑一家台積電的力量人無法挽救因半導體復甦緩慢、而導致的半導體設備商營收衰退趨勢。

繼續閱讀..

2030 年全球晶圓廠 EUV 每年耗電量，超過新加坡或希臘用電總合
作者 |發布日期 2024 年 11 月 02 日 13:30 |
line share
Linkedin share
line share
分類 半導體 , 材料、設備 , 能源科技

極紫外光（EUV）微影曝光是未來幾年現代半導體製程技術不可或缺的關鍵，然每台 EUV 設備消耗 1,400KW 電力，相當於一個小城市的電力消耗，使 EUV 曝光系統成為一個巨大的電力消耗者，對環境產生影響。TechInsights 研究報告指出，到 2030 年，所有配備 EUV 微影設備的晶圓廠，其總耗電量將超過每年 54,000 GW，這比許多國家，包括新加坡或希臘每年消耗的電力還要多。

繼續閱讀..