Tag Archives: 極紫外光

挽救摩爾定律:ASML 極紫外光(EUV)微影技術量產的開發歷程

作者 |發布日期 2021 年 02 月 15 日 0:00 | 分類 晶片 , 材料、設備 , 零組件

2019 年底在舊金山舉辦的年度國際電子元件會議(IEDM)上,台積電公布的兩個報告標誌著積體電路製造邁入了 EUV 微影時代。第一個報告宣布了應用 EUV 微影技術的 7 奈米世代的改良版晶片已經於 2019 年正式量產,我們知道這個技術已經用在 2019 年生產的麒麟 990  5G 這顆有多於 100 億個電晶體的晶片上。

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武漢肺炎疫情導致 3 大關鍵因素衝擊,ASML 下修 2020 年首季財測

作者 |發布日期 2020 年 03 月 31 日 15:30 | 分類 國際貿易 , 材料、設備 , 財經

就在武漢肺炎疫情衝擊全球經濟的當下,全球許多大型科技公司紛紛調降財測。而日前已經發布過 2019 年第 1 季財測數字的台積電重要供應商──光刻機大廠艾司摩爾(ASML)表示,雖然 2020 年的整體需求並沒有減少,而且武漢肺炎疫情對 ASML 的產能影響有限。但是,在 3 大因素的干擾下,ASML 還是必須下修 2020 年第 1 季的財務預測。

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