Tag Archives: 艾司摩爾

西安封城與 ASML 柏林工廠火災，有利記憶體但衝擊邏輯半導體

作者 Atkinson|發布日期 2022 年 01 月 10 日 16:30 |

分類晶圓 , 晶片 , 材料、設備

南韓證券公司《NH Investment & Securities》最新報告指出，中國西安持續封鎖加上 ASML 柏林工廠火災，衝擊半導體晶片生產，但對記憶體市場供需有利，對邏輯晶片則不利。預估美光、SK 海力士等記憶體企業業績短期內超過邏輯晶片企業。

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全球半導體積極擴產使人才缺口更嚴重，各國政府攜手業界設法補救

作者 Atkinson|發布日期 2022 年 01 月 04 日 14:50 |

分類 IC 設計 , 人力資源 , 晶圓

《華爾街時報》報導，雖然為了因應全球晶片荒，世界各大半導體廠都積極擴產，以因應市場需求，不過結果也使高科技人才缺口越來越大，成為半導體產業發展隱憂。

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EUV 大廠 ASML 德國柏林工廠發生火災，損失與影響仍在統計

作者 Atkinson|發布日期 2022 年 01 月 04 日 6:00 |

分類晶圓 , 晶片 , 材料、設備

《路透社》報導，曝光設備大廠艾司摩爾 (ASML ) 台北時間 3 日晚間表示，柏林工廠發生火災，沒有人員受傷。不過現在評估火災影響還為時過早。

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下世代高數值孔徑 EUV 售價逾 80 億元，屆時再掀資本支出大戰

作者 Atkinson|發布日期 2021 年 12 月 22 日 15:00 |

分類晶圓 , 材料、設備 , 財經

半導體先進製程關鍵之一就是曝光設備，原因是一方面曝光設備佔所有先進製程製造設備成本 22% 左右，也佔製造工時 20% 左右。另一方面全球僅荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 生產先進極紫外光曝光設備 (EUV)，EUV 又是進入 10 奈米以下先進製程的必備關鍵。半導體製造商要跨入先進製程，向 ASML 採購 EUV 曝光設備就必不可少。

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ASML 登上全球半導體曝光設備龍頭，兩個轉捩點都與台積電有關

作者 Atkinson|發布日期 2021 年 11 月 18 日 12:10 |

分類公司治理 , 晶圓 , 晶片

外媒報導，半導體製程一家獨大的極紫外光曝光設備 (EUV) 廠商艾司摩爾 (ASML)，幾乎成為各半導體製造商發展不可或缺的夥伴，尤其 10 奈米以下先進製程，沒有 EUV 協助幾乎不能做。ASML 如何爬上龍頭之位，有兩個關鍵轉捩點。

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無法擺脫國外半導體供應鏈，中國自研晶片發展只是另謀特定市場

作者 Atkinson|發布日期 2021 年 10 月 25 日 15:45 |

分類 IC 設計 , 中國觀察 , 晶片

美國財經媒體《CNBC》報導，即便中國積極推動本土半導體產業發展，許多中國企業都在 2021 年陸續宣布自製晶片計畫，但仍需大規模仰賴國外供應鏈，中國本土廠商支援非常少，也顯示中國要達半導體自製還有很遠的路。

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EUV 出貨量和營收皆創紀錄，ASML 第三季獲利驚人成長 67%

作者 Atkinson|發布日期 2021 年 10 月 20 日 15:10 |

分類材料、設備 , 財報 , 財經

全球半導體微影技術廠商艾司摩爾 (ASML) 20 日公布 2021 年第三季財報，銷售淨額 (net sales) 為 52 億歐元，較第二季大幅成長 30%。淨收入 (net income) 達 17 億歐元，較第二季更一口氣成長 67.6%。毛利率 (gross margin) 到 51.7%，較第二季 50.9% 持續成長 0.8 個百分點，新增訂單金額達 62 億歐元。

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