Tag Archives: ASML

軟體、晶片到支付：美中歐的割裂時代如何發酵？
作者 |發布日期 2025 年 08 月 26 日 8:10 |
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分類 國際觀察 , 國際貿易 , 材料、設備

就在美國總統川普第一任期後、美中的矛盾成為全球經濟的新常態，也使得全球經濟的發展不再是單一標準、單一市場，而是三個互相需要、卻又互相牽制的重要市場相互制衡。美國想要保持開放生態，但又以出口管制保留關鍵的制約能力；中國則打算以強勢的掌控性，打造出一個能夠自主的市場體系；歐盟則在兩強間生出一套雲端、電動車等新科技的規範，嘗試持續以這個大市場的影響力，打造出全新的安全與市場版圖。

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台灣半導體人才缺口加劇，ASML 軟硬實力培訓與國際化布局維持競爭力
作者 |發布日期 2025 年 08 月 18 日 12:00 |
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分類 人力資源 , 半導體

全球半導體市場持續高速成長，帶動對專業工程人才的需求。根據工研院與人力銀行資料顯示，2024 年台灣工程師缺口已達 3.4 萬人，較五年前增加逾五成。這個缺口涵蓋製程、設備、設計、封測等全鏈條，並非單一環節短缺。業界預測，2027 年將迎來半導體產業的「黃金交叉點」，也就是人才供給全面落後於需求，屆時缺口規模可能突破 5 萬人。

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從 EUV 心臟到創新基地，看蔡司半導體如何在台灣養成國際級工程師
作者 |發布日期 2025 年 08 月 18 日 9:00 |
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分類 人力資源 , 半導體

你可能對艾司摩爾（ASML）公司那台要價新台幣數十億元、甚至上百億元的 EUV（極紫外光）微影設備不陌生。但你可能不知道，這台備受矚目的機器中有一項關鍵技術——「光學反射鏡」，而提供這項技術的是蔡司半導體（ZEISS SMT），為擁有 179 年歷史的德國蔡司集團旗下半導體事業部。 繼續閱讀..

《大賣空》麥可貝瑞翻多 買 ASML／Meta／中概買權
作者 |發布日期 2025 年 08 月 15 日 12:15 |
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分類 證券 , 財經

電影《大賣空》（Big Short）主角本尊、2008 年全球金融海嘯爆發前放空不動產抵押證券的知名對沖基金經理人麥可貝瑞（Michael Burry），2025 年第二季（4-6 月）轉趨樂觀，不但看好部分中概股，也買進荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASML Holding N.V.），以及許多避險基金都相中的美國健保和醫療保健服務商聯合健康集團（UnitedHealth）。 繼續閱讀..

ASML 設備輸美免關稅 台積電／Intel／三星鬆口氣
作者 |發布日期 2025 年 07 月 31 日 14:10 |
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分類 半導體 , 國際貿易 , 晶片

美國總統川普（Donald Trump）與歐盟執委會主席馮德萊恩（Ursula von der Leyen）週日（7 月 27 日）宣布敲定貿易框架、歐盟輸美產品關稅訂為 15%。外媒爬梳聲明內文發現，艾司摩爾（ASML Holding N.V.）等廠商生產的半導體設備，將直接豁免輸美關稅。 繼續閱讀..

台積電美國廠迎大利多！荷蘭半導體設備大廠 ASML 享美國零關稅優惠
作者 |發布日期 2025 年 07 月 31 日 7:32 |
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分類 半導體 , 國際貿易 , 晶片

美國總統川普（Donald Trump）近日與歐盟達成新一輪貿易協議，對歐洲進口關稅從 30% 調降至  15% 的稅率，其中包括半導體設備在內的若干戰略性產品獲得零關稅豁免，關代表荷蘭半導體設備大廠 ASML 的產品在美國市場將不會漲價，意味台積電美國廠迎來大利多。

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ASML 示警 2026 年不確定維持成長，利空消息衝擊股價重挫逾 7%
作者 |發布日期 2025 年 07 月 16 日 19:40 |
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分類 半導體 , 材料、設備 , 財報

半導體設備商艾司摩爾 (ASML) 16 日公布財報，營收超過市場分析師預期，但警告未來成長，主因為日益緊張的地緣政治和大環境不確定性，特別是關稅。ASML 表示，儘管人工智慧（AI）需求強勁，公司仍需謹慎應付多重挑戰。

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應對美國晶片禁令，中國能打造自己的 ASML 嗎？
作者 |發布日期 2025 年 07 月 16 日 15:15 |
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分類 AI 人工智慧 , 中國觀察 , 半導體

美國政府對中國實施晶片出口管制，禁止 ASML 向中國出口先進的 EUV 與 DUV 設備，甚至連 DUV 設備的維修服務也遭限制，直接切斷中國取得與維護微影技術的關鍵途徑。受此影響，中國在 5 奈米以下的先進製程上難以與國際同步，微影技術成為半導體發展的最大瓶頸。 繼續閱讀..

英特爾看淡曝光機對半導體重要性，外資下修 ASML 目標價
作者 |發布日期 2025 年 07 月 03 日 15:30 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

2023 年末，曝光機大廠 ASML 向英特爾運交機首套 High-NA EUV 曝光機，型號為 TWINSCAN EXE:5000。業界普遍認為，High-NA EUV 將對先進晶片開發和下代處理器生產發揮關鍵作用。不過最近又有變化，各晶圓代工廠都在減少依賴 High-NA EUV，延後導入時間。特別是英特爾董事發言，讓市場對 High-NA EUV 前景產生更多疑問。

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