Tag Archives: ASML

荷蘭政府不再揭露 ASML 中國銷售資訊,防止追溯特定公司

作者 |發布日期 2025 年 01 月 22 日 12:00 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 國際貿易

路透社報導,荷蘭政府 2023 年9 月起不揭露微影曝光大廠艾司摩爾 (ASML) 中國銷售狀況。此政策從未報導,原因是備受關注,因荷蘭政府以往會公布有潛在軍事用途的「兩用」商品出口資訊。此政策施行後,代表靠此數據了解各國軍事能力的專家與單位,不能再掌握詳細狀況。

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俄國計劃自研 EUV 設備,比 ASML 系統更便宜、容易製造

作者 |發布日期 2024 年 12 月 19 日 17:54 | 分類 半導體 , 材料、設備

綜合外媒 CNews、Tom′s Hardware 報導,俄羅斯已公布自主開發曝光機的路線圖,目標是打造比 ASML 系統更經濟且更複雜的設備。這些曝光機將採用波長為 11.2 奈米的雷射光源,而非 ASML 使用的標準 13.5 奈米波長。因此,新技術無法與現有 EUV 基礎設施相容,需要俄羅斯自行開發配套的曝光生態系統,可能需要數年甚至十年以上時間。 繼續閱讀..

Rapidus 北海道廠分四階段安裝 EUV 曝光機,拚 2027 年量產

作者 |發布日期 2024 年 12 月 19 日 10:33 | 分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備

日本半導體新創 Rapidus 成為日本首間獲得極紫外線(EUV)曝光設備的公司,目前已開始在北海道千歲市在建晶圓廠安裝設備。該公司執行長小池淳義(Atsuyoshi Koike)18 日在新千歲機場舉行的典禮上表示,將從北海道和日本向全球提供最先進半導體。 繼續閱讀..

具俄羅斯背景 ASML 前員工遭控竊取機密,遭荷蘭拘留並處 20 年入境禁令

作者 |發布日期 2024 年 12 月 10 日 15:30 | 分類 IC 設計 , 半導體 , 晶圓

根據荷蘭媒體 NOS 的報導,一名具有俄羅斯背景的 ASML 前員工,因為涉嫌竊取 ASML 重要晶片文件檔而被荷蘭政府拘留。同時,荷蘭庇護和移民局近日已對該 ASML 前員工實施了 20 年的入境禁令。報導表示,過去荷蘭很少實施此類禁令,通常只針對涉及國家安全的案件才會做出此等措施。

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AI 晶片需求快速成長,推動台積電積極部署與發展 High-NA EUV 製程

作者 |發布日期 2024 年 11 月 18 日 16:45 | 分類 AI 人工智慧 , IC 設計 , 半導體

媒體報導,先前市場消息指出,台積電已經於 2024 年 9 月份從荷蘭半導體設備商艾司摩爾 (ASML) 接收首套高數值孔徑 (High-NA) 極紫外線 (EUV) 曝光機-EXE:5000。這代表著台積電對這項先進半導體技術不斷變化的立場,從一開始持謹慎,到後來全面發展採用,為的就是保持其在競爭激烈的半導體產業中維持領先地位,也因應 AI 晶片對先進製程需求的快速成長。

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2025 年川普回歸白宮,市場預測半導體設備廠商寒冬開始

作者 |發布日期 2024 年 11 月 18 日 16:05 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

外媒報導,全球最大的半導體設備企業的應用材料 (Applied Materials, Inc.),因中國市場的營收大幅下滑,日前發表了不如市場預期的獲利預測。先前,全球最大半導體曝光機廠商艾司摩爾 (ASML) 也因為中國市場的業績受到衝擊,還有日本半導體大廠東京威力科創 (TEL) 也因中國市場占有率的迅速下降,這些狀況都讓市場擔心半導體設備廠商的冬天將要來臨。

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大量採購造成衝擊,2025 年中國半導體設備市場衰退

作者 |發布日期 2024 年 11 月 07 日 15:00 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

根據日經亞洲的報導表示,預計中國半導體設備市場在 2025 年將呈現衰退的情況。造成此狀況的原因,在於因為先前美中緊張局勢升溫之際,中國相關企業提前採購,造成市場大量庫存與積極提升,而 2025 年將回歸市場正常狀態所致。

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