Tag Archives: ASML

俄國計劃自研 EUV 設備，比 ASML 系統更便宜、容易製造
作者 |發布日期 2024 年 12 月 19 日 17:54 |
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分類 半導體 , 材料、設備

綜合外媒 CNews、Tom′s Hardware 報導，俄羅斯已公布自主開發曝光機的路線圖，目標是打造比 ASML 系統更經濟且更複雜的設備。這些曝光機將採用波長為 11.2 奈米的雷射光源，而非 ASML 使用的標準 13.5 奈米波長。因此，新技術無法與現有 EUV 基礎設施相容，需要俄羅斯自行開發配套的曝光生態系統，可能需要數年甚至十年以上時間。 繼續閱讀..

Rapidus 北海道廠分四階段安裝 EUV 曝光機，拚 2027 年量產
作者 |發布日期 2024 年 12 月 19 日 10:33 |
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分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備

日本半導體新創 Rapidus 成為日本首間獲得極紫外線（EUV）曝光設備的公司，目前已開始在北海道千歲市在建晶圓廠安裝設備。該公司執行長小池淳義（Atsuyoshi Koike）18 日在新千歲機場舉行的典禮上表示，將從北海道和日本向全球提供最先進半導體。 繼續閱讀..

具俄羅斯背景 ASML 前員工遭控竊取機密，遭荷蘭拘留並處 20 年入境禁令
作者 |發布日期 2024 年 12 月 10 日 15:30 |
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分類 IC 設計 , 半導體 , 晶圓

根據荷蘭媒體 NOS 的報導，一名具有俄羅斯背景的 ASML 前員工，因為涉嫌竊取 ASML 重要晶片文件檔而被荷蘭政府拘留。同時，荷蘭庇護和移民局近日已對該 ASML 前員工實施了 20 年的入境禁令。報導表示，過去荷蘭很少實施此類禁令，通常只針對涉及國家安全的案件才會做出此等措施。

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AI 晶片需求快速成長，推動台積電積極部署與發展 High-NA EUV 製程
作者 |發布日期 2024 年 11 月 18 日 16:45 |
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分類 AI 人工智慧 , IC 設計 , 半導體

媒體報導，先前市場消息指出，台積電已經於 2024 年 9 月份從荷蘭半導體設備商艾司摩爾 (ASML) 接收首套高數值孔徑 (High-NA) 極紫外線 (EUV) 曝光機-EXE:5000。這代表著台積電對這項先進半導體技術不斷變化的立場，從一開始持謹慎，到後來全面發展採用，為的就是保持其在競爭激烈的半導體產業中維持領先地位，也因應 AI 晶片對先進製程需求的快速成長。

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2025 年川普回歸白宮，市場預測半導體設備廠商寒冬開始
作者 |發布日期 2024 年 11 月 18 日 16:05 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

外媒報導，全球最大的半導體設備企業的應用材料 (Applied Materials, Inc.)，因中國市場的營收大幅下滑，日前發表了不如市場預期的獲利預測。先前，全球最大半導體曝光機廠商艾司摩爾 (ASML) 也因為中國市場的業績受到衝擊，還有日本半導體大廠東京威力科創 (TEL) 也因中國市場占有率的迅速下降，這些狀況都讓市場擔心半導體設備廠商的冬天將要來臨。

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大量採購造成衝擊，2025 年中國半導體設備市場衰退
作者 |發布日期 2024 年 11 月 07 日 15:00 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

根據日經亞洲的報導表示，預計中國半導體設備市場在 2025 年將呈現衰退的情況。造成此狀況的原因，在於因為先前美中緊張局勢升溫之際，中國相關企業提前採購，造成市場大量庫存與積極提升，而 2025 年將回歸市場正常狀態所致。

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三大曝光機廠均下修業績，只憑台積電難力挽半導體復甦
作者 |發布日期 2024 年 11 月 02 日 15:30 |
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分類 半導體 , 材料、設備 , 財報

繼日前半導體曝光機大廠艾司摩爾 (ASML)、佳能 (Canon) 相繼下修年度財測目標後，另一家曝光機廠商尼康 (Nikon) 近日也宣布下修年度財測目標。所以，即使半導體製造龍頭台積電 2024 年第三季繳出亮眼成績，但單憑一家台積電的力量人無法挽救因半導體復甦緩慢、而導致的半導體設備商營收衰退趨勢。

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