Tag Archives: High-NA EUV

三星力拚有「夢想製程」之稱的 1 奈米 2029 年量產

作者 Atkinson|發布日期 2025 年 04 月 11 日 14:45 |

分類 Samsung , 半導體 , 晶圓

媒體 Sedaily 報導，三星 2 奈米 GAA 進展順利，但三星目標是 1 奈米製程。最新報告指出，三星已成立團隊負責計畫，但還需要一段時間才能看到 1 奈米應用，因量產時間是 2029 年。

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財務狀況吃緊，英特爾延後俄亥俄園區一期晶圓廠落成時間至 2030 年

作者 Atkinson|發布日期 2025 年 03 月 02 日 10:00 |

分類 IC 設計 , 公司治理 , 半導體

英特爾日前宣布，對位於俄亥俄州園區的建設時間表進行重大修改。該園區廠原定於 2025 年完工，之後第一階段興建的晶圓廠產線進入新製程的研發與生產階段。然而，在該園區經過這第三次大幅延後時間之後，第一階段晶圓廠完工的時間將將來到 2030 年，量產晶片的時間則是在 2030~2031 年。英特爾強調，其對該園區興建的承諾沒有改變，市場需求允許下加速建設。

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英特爾領先業界啟用 High-NA EUV，至今處理超過 3 萬片晶圓

作者 Atkinson|發布日期 2025 年 02 月 27 日 10:50 |

分類半導體 , 晶圓 , 晶片

路透社報導，處理器大廠英特爾 (Intel) 日前產業會議透露，開始用兩台艾司摩爾（ASML）High-NA Twinscan EXE:5000 EUV 微影曝光機。英特爾工程師 Steve Carson 表示，奧勒岡州 Hillsborough 附近 D1 工廠開始用 ASML 兩台 High-NA EUV，至今處理達 3 萬片晶圓。

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英特爾：首批兩台 High-NA EUV 設備已投產，初期數據表現良好

作者林妤柔|發布日期 2025 年 02 月 25 日 9:42 |

分類半導體 , 晶圓 , 材料、設備

英特爾 24 日表示，ASML 首批的兩台先進曝光機已投產，早期數據顯示比之前機型更可靠。繼續閱讀..

從三星與 SK 海力士調整 EUV 策略，看出兩家公司經營處境

作者 Atkinson|發布日期 2024 年 12 月 31 日 11:00 |

分類 Samsung , 公司治理 , 半導體

韓國兩大半導體大廠三星和 SK 海力士對極紫外線（EUV）微影技術採取不同策略，引起業界關注。兩家 EUV 不同政策正值高度市場競爭時刻，能看出各自處境。

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AI 晶片需求快速成長，推動台積電積極部署與發展 High-NA EUV 製程

作者 Atkinson|發布日期 2024 年 11 月 18 日 16:45 |

分類 AI 人工智慧 , IC 設計 , 半導體

媒體報導，先前市場消息指出，台積電已經於 2024 年 9 月份從荷蘭半導體設備商艾司摩爾 (ASML) 接收首套高數值孔徑 (High-NA) 極紫外線 (EUV) 曝光機-EXE:5000。這代表著台積電對這項先進半導體技術不斷變化的立場，從一開始持謹慎，到後來全面發展採用，為的就是保持其在競爭激烈的半導體產業中維持領先地位，也因應 AI 晶片對先進製程需求的快速成長。

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台積電年底前獲首套 High-NA EUV，生產領先 2 奈米兩代製程

作者 Atkinson|發布日期 2024 年 11 月 04 日 16:45 |

分類半導體 , 材料、設備

日經亞洲的報導，全球最大半導體製造商台積電 (TSMC) 年底前會收到 ASML 最先進微影曝光機。高數值孔徑極紫外 (High NA EUV) 微影曝光機每台售價超過 3.5 億美元，能使半導體製造商製造電晶體線寬更小的晶片。

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ASML：High NA EUV 組裝加速，英特爾裝完第二套

作者 Atkinson|發布日期 2024 年 10 月 09 日 21:20 |

分類半導體 , 材料、設備

ASML 新任執行長 Christophe Fouquet 出席 SPIE 大會演講時，介紹 High NA EUV 曝光機，也確認英特爾第二套 High NA EUV 曝光機組裝完成。

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台積電本月引進 High-NA EUV 曝光機，韓媒指三星落後加大

作者 Atkinson|發布日期 2024 年 09 月 11 日 13:10 |

分類半導體 , 晶圓 , 晶片

韓國媒體 BusinessKorea 引述台灣媒體的報導指出，晶圓代工龍頭台積電將於 9 月底從荷蘭 ASML 公司接收第一套 High-NA EUV 曝光機──EXE:5000，這對對於全球領先台積電來說是一個重要的里程碑，但是對競爭對手三星來說，無疑地將拉大兩家公司的競爭差距。

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台積電搶先三星收到 High-NA EUV，ASML 還給折扣

作者 Atkinson|發布日期 2024 年 09 月 10 日 10:40 |

分類半導體 , 材料、設備

進入 2 奈米以下埃米時代後，ASML 高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 曝光機就成為先進製程半導體廠的關鍵。英特爾 4 月宣佈業界首套 High-NA EUV 組裝完成後，台積電月底也會引進首套 High-NA EUV，較外界猜測年底提前一季，也超車很想搶在台積電前面的三星。

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High-NA EUV 競爭時代來臨，三星力拚比台積電早到貨

作者 Atkinson|發布日期 2024 年 08 月 16 日 13:10 |

分類 Samsung , 半導體 , 晶圓

月初英特爾執行長 Pat Gelsinger 於 2024 年第二季財報會議透露，美國俄勒岡州半導體研發基地即將迎接第二套 High-NA EUV 進駐，很快就會入廠。這是 2023 年底 ASML 交貨英特爾第一套 High-NA EUV、今年 4 月組裝完成後，英特爾購入的第二套 High-NA EUV。

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