三星搶 EUV 頭香,7 奈米拚 2017 年底量產

作者 | 發布日期 2016 年 05 月 09 日 9:05 | 分類 Samsung , 晶片 , 零組件 follow us in feedly
下載自美聯社

三星希望領先業界,成為首家引進極紫外光(EUV)量產設備的晶圓代工廠。EUV 微影技術被三星視為是下一世代先進製程的關鍵,三星打的如意算盤是藉由 EUV 微影技術領先,以超越台積電、英特爾等競爭對手。



三星團隊今年初就營運策略展開診斷,原訂於 3 月完成,但為求詳細,因此又多花了一個月的時間,而其致勝結論是不斷衝刺先進製程,以及客戶多元化分散風險。

據 ETnews.com 報導,三星近期將從半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)採購 NXE3400 機台,也就是量產型 EUV 微影設備,預計 2017 年第二或第三季裝設完工後,於年底開始用於量產 7 奈米晶片,這將是三星首度在量產線上採用 EUV 設備。

報導指出,台積電目前還沒有在晶圓量產線上引進 EUV 設備的計畫,但三星認為只有 EUV 才能完美實現 7 奈米技術,並計劃以此為賣點向客戶推銷。三星近期舉辦論壇,已經開始對客戶宣傳本項計畫。

(本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載;首圖來源:達志影像) 

關鍵字: , , , ,

發表迴響