微電子產業特種化學品和材料解決方案廠商英特格（Entegris）宣布，新一代光罩盒已獲得半導體生產設備商艾司摩爾（ASML）認證，可用於極紫外光（EUV）微影技術的晶片大量生產，用以保護製造過程中光罩的完整。
英特格新一代光罩盒通過 ASML 認證，可用於 EUV 技術生產製程 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2018 年 08 月 22 日 14:30 | 分類 晶片 , 材料、設備 , 處理器 |
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晶片設備商 ASML Q2 財報讚，中國銷售占比降、台灣升 |
| 作者 MoneyDJ|發布日期 2018 年 07 月 18 日 16:00 | 分類 晶片 , 財報 , 財經 |
半導體設備供應商艾司摩爾（ASML Holding NV）7 月 18 日發布 2018 年 Q2 財報：營收季增 19.9% 至 27.40 億歐元，優於 3 個月前預期的 25-26 億歐元；毛利率報 43.3%，低於 Q1 的 48.7%，但優於去年同期的 42.9%；營益率報 25.2%，遜於 Q1 的 28.1% 以及去年同期的 26.8%；純益年增 4.8%（季增 8.2%）至 5.84 億歐元。根據 Thomson Reuters 的調查，分析師原先預期艾司摩爾 Q2 營收以及純益分別為 25.6 億歐元、5.24 億歐元。 繼續閱讀..
要超車台積電，三星宣布採用 EUV 技術 7 奈米製程完成驗證 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2018 年 06 月 15 日 17:00 | 分類 GPU , Samsung , 晶片 |
在晶圓代工市場，台積電與三星的競爭始終是大家關心的戲碼。三星雖然有高通等 VIP 客戶，但在 7 奈米製程節點，高通預計會轉投台積電，三星要想受更多客戶的青睞，只能從製程技術著手了。這也是三星為什麼跳過非 EUV 技術的 7 奈米製程，直接上 7 奈米 LPP EUV 製程技術的原因。如今，三星終於公布了 7 奈米 LPP 製程已完成新思科技（Synopsys）物理認證，意味著 7 奈米 EUV 製程將可全球量產了。
美光進行下世代 1Y 奈米 DRAM 驗證，技術上不須推進 EUV 應用 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2018 年 06 月 06 日 14:10 | 分類 國際貿易 , 記憶體 , 財經 |
2018 年在邏輯 IC 的生產方面，包括台積電、三星及格羅方德等都會量產 7 奈米製程。首代的 7 奈米製成將使用傳統的 DUV 光刻技術，第二代 7 奈米製程才會上 EUV 光刻技術，且在 2019 年正式量產。至於，在記憶體產業部分，美光日前也表示，EUV 光刻技術並不是 DRAM 製程中所必須的，而且未來幾年內都都還不一定用得上。目前，美光在新一代製程技術上，正在由客戶驗證 1Y 奈米製程的記憶體，而且未來還有 1Z、1α 及 1β 製程。
搶攻 5 奈米製程節點，台積電先進製程掌握效能與功耗提升 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2018 年 05 月 09 日 16:10 | 分類 GPU , 晶片 , 處理器 |
晶圓代工龍頭台積電，日前在美國加州聖荷西所舉行的年度技術研討會上，除了宣布將推出晶圓堆疊（WoW）的生產技術，以及多項新型晶圓封裝技術之外，也在先進製程的進展上說明各項發展。其中包括 7 奈米（7FF）製程將在 2018 年量產，而將用 EUV 及紫外光技術的 7 奈米強化版（7FF+）也將在 2019 年初量產。甚至，更先進的 5 奈米（5FF）製程也將在 2020 年正式生產，而該製成節點也將會是台積電第 2 個採用 EUV 技術的製程節點。
