ANSYS 工程模擬方案過台積電 7 奈米 + FinFET Plus 先進製程認證

工程模擬廠商 ANSYS 宣布，採極紫外線微影（extreme ultraviolet lithography ; EUV）技術的 7 奈米 FinFET Plus （N7+）製程節點的 ANSYS 解決方案已獲台積電的認證，台積電亦驗證最新 InFO_MS （Integrated Fan-Out with Memory on Substrate）先進封裝技此項驗證的通過技術的參考流程。對無晶圓廠（fabless） IC設計公司而言，由於模擬工具需通過新製程節點和封裝技術嚴格測試與確認，因此認證與驗證非常重要。