EUV 設備每台重量高達 180 公噸,每次運輸必須動用 3 架次貨機

作者 | 發布日期 2019 年 06 月 06 日 15:45 | 分類 國際貿易 , 晶圓 , 材料、設備 follow us in feedly


晶圓製造產業進入 7 奈米製程之後,目前全世界僅剩台積電與三星,再加上號稱自家 10 奈米製程優於競爭對手 7 奈米製程的英特爾等,有繼續開發能力之外,其他競爭者因須耗費大量金錢與人力物力的情況下,都已宣布放棄。就在 7 奈米製程節點以下先進製程的領域,必不可少的關鍵就是極紫外線微影(EUV)設備導入。除了三星用在首代 7 奈米 LPP 製程,台積電也自 2019 年開始,將 EUV 導入加強版 7 奈米+ 製程。

所謂的極紫外線微影設備 EUV,就是 Extreme Ultraviolet 簡稱,使用通稱極紫外線之極短波(13.5nm)光線的微影技術,能加工至既有 ArF 準分子雷射光微影技術不易達到之 20nm 以下的精密尺寸。不但能降低晶圓製造時光罩使用數量,以降低生產成本,並提高生產良率,也因能加工過去 ArF 準分子雷射光微影技術不易達到的 20nm 以下之精密尺寸,更有助半導體產業摩爾定律(Moore’s law)再往下延伸,讓半導體產業發展持續精進。

因 EUV 設備扮演如此關鍵性的角色,使全球晶圓生產企業都希望獲得此設備。2012 年,全球三大頂尖晶圓製造廠商英特爾、台積電、三星等加入全球 EUV 市場占有率 90% 以上的艾司摩爾(ASML)「客戶聯合投資專案」(Customer Co-Investment Program),分別取得艾司摩爾 15%、5% 及 3% 股權,保證取得 EUV 優先供貨。

聽了這麼多有關 EUV 設備的敘述之後,或許大家都懂了這是什麼樣的設備,但卻很難想像,EUV 不過就是一台微影設備,究竟體積會有多大?日前 ASML 就表示,目前最大年產量僅 30 台的 EUV 設備,每台重量高達 180 公噸,每次運輸要用 3 架次貨機才能運完。

ASML 表示,目前半導體先進製程不可或缺的 EUV 設備,每台有超過 10 萬個零件,加上 3 千條電線、4 萬個螺栓及 2 公里長的軟管等零組件,最大重量達 180 公噸,每次運輸必要動用 40 個貨櫃、20 輛卡車,並 3 架次貨機才能運完,且每部造價超過 1 億美元。在這麼龐大的數字下,可以想見 ASML 為什麼一年最高產量只有 30 部 EUV 了。

(首圖來源:ASML)