你不知道的 4 大考量,ASML 微影設備即使無塵室內運作仍需外殼保護

作者 | 發布日期 2020 年 07 月 15 日 16:00 | 分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區 Telegram share ! follow us in feedly


全球半導體微影技術廠商艾司摩爾(ASML),因為其所生產的微影設備已經在半導體先進製程中成為不可或缺的重要關鍵。尤其其中的極紫外光刻設備(EUV)更為晶圓代工龍頭台積電與競爭對手三星在作業上的重點。而且,還因為美國擴大對中國華為的禁售令限制,在當前中國無法取得 EUV 設備的情況下,使得華為未來面臨可能沒有尖端晶片可使用的情況。由此可知,ASML 所生產的微影設備對當前半導體產業的重要性。