彭博社報導，先進半導體製程不可或缺的 EUV 微影曝光設備，可說是現代工程奇蹟。荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 生產的半導體設備，不但每套價值 1.5 億美元，更由 10 萬個零件組成，是生產個位數奈米級晶片的重要設備。只是一套 EUV 微影曝光設備每年耗電量達 1 兆瓦，是前幾代設備 10 倍，還沒有替代品的情況下，半導體產業還是全球推動節能減碳的巨大絆腳石。
晶圓代工龍頭台積電擁有 80 幾套 EUV 微影曝光設備，是全球有此設備最多的半導體廠商，且台積電南科價值 200 億美元廠房也安裝新一代設備。台積電 EUV 耗電量約等於斯里蘭卡每年 2,100 萬人。據 2020 年統計，台積電占台灣能源消耗 6%，到 2025 年將升到 12.5%。除了台積電，美商記憶體大廠美光也預定中科廠房安裝 EUV 微影曝光設備。
報導引用彭博社分析師說法，3 年內台灣晶圓代工廠有四分之一晶片生產都依賴 EUV 設備，除非晶圓廠自己興建發電廠，否則未來無法提供足夠電力，尤其半導體產業對台灣經濟至關重要，電力短缺肯定會發生。環保團體綠色和平組織警告，台積電大幅占據台灣能源，衝擊其他產業。
報導也引用研究單位 Imec 說法， 半導體如此高耗能設備，使發展可再生能源更重要緊迫。台灣嚴重依賴化石燃料，2016 年政府制定目標，到 2025 年要利用可再生能源如太陽能和海上風能達 20%。不過 7 月最新能源評估報告顯示，截至 2021 年底，電力來源只有 6% 是可再生能源，故官員將 2025 年目標下調至 15%。
不僅台灣，全球第二大晶圓代工企業三星也面臨挑戰，三星南韓有 6 個半導體製造基地，占 2021 年耗電量 3%。三星藉為客戶製造晶片與台積電競爭，也在積極擴大購買 EUV 設備。雖然三星 EUV 量比台積電少，卻未公開說明究竟有多少套。6 月負責人李在鎔還前往荷蘭與 ASML 商談新交易。
南韓 60% 以上電力來自燃燒煤炭和天然氣，政府目標是 2030 年將碳排放量從 2018 年減少 40%，需將可再生能源占比由 2021 年 7.5% 提高到 2030 年 30%。台積電與三星的競爭對手英特爾表現最優於，部分原因是英特爾在亞利桑那州、新墨西哥州和俄勒岡州的晶圓廠可取得較多再生能源。2021 年 80% 電力來自再生能源，高於前一年 71%，但因也在發展先進製程，整體用電量也顯著增加。
美國與歐洲都通過晶片法案，振興本地半導體產業，因應供應鏈波動與地緣政治影響。不過法案顯然沒有將半導體產業對環境的影響納入考量，使生產 EUV 設備的 ASML 面臨前所未有需求成長，即便美國新禁令衝擊中國取得先進半導體生產設備計劃，但對 ASML 影響不大。彭博資訊分析師數據，2023 年年營收可能會成長 30% 以上，金額達約 260 億美元。ASML 財務長 Roger Dassen 4 月時表示，ASML 正在研究到 2025 年，EUV 設備年產能由 70 套增加到 90 套的可能性。
(首圖來源：ASML)
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