ASML 執行長訪中國徒勞無功，難改中國半導體面臨美國限制壓力

南華早報引用市場分析師說法，本週荷蘭半導體設備製造商 ASML 執行長訪問中國，不太可能改變中國半導體產業被美國制裁的壓力。

ASML 執行長 Peter Wennink 28 日會見中國商務部部長王文濤。中國商務部聲明指出，中國希望為外國公司創造寬鬆的商業環境，ASML 可保持信心，並共同維護全球半導體產業鏈穩定。

Peter Wennink 低調的中國拜訪行程，與王文濤會面唯一公開行程。Peter Wennink 沒有發表任何談話，也沒有接受中國官媒採訪，突顯 ASML 在北京半導體開發計畫的敏感性。ASML 的尖端半導體先進微影曝光設備，幾乎是壟斷地位，但荷蘭政府在美國政府壓力下，阻止 ASML 出口中國市場最先進設備。

市場分析師強調，Peter Wennink 中國行不太可能改變狀況，即便 ASML 與許多歐洲公司一樣，認為中國是非常重要市場，但目前環境，ASML 除了必須減少政治影響，還要找到更平衡的經營方式。

疫情解封後的中國一直想吸引外國企業回流，恢復投資中國，拉抬中國經濟。近期蘋果執行長庫克和三星電子董事長李在鎔都在中國發展高峰論壇會見中國官員，也都獲中國保證，就算與美國關係惡化，仍對國際合作持開放態度。不過荷蘭考慮限制出口中國半導體設備技術，這要求 ASML 深紫外 (DUV) 微影曝光系統運往中國前必須申請許可證，影響 ASML 的中國營運。

統計數據顯示，截至 2022 年底，ASML 中國 1,400 名員工基礎上再增加 200 名新員工，有 14 個辦事處、11 個倉儲和物流中心、兩個研發基地、一個培訓中心和一個維護中心。儘管美中摩擦日漸激烈，ASML 過去幾年中國市場仍成長迅速。到 2022 年 ArF 沉浸式 DUV 設備銷售占 ASML 總營收 154 億歐元（約 162.3 億美元）34%，2021 年為 36%；EUV 銷售金額占比達 46%。

2019 年以來，ASML 不能出口中國最先進極紫外 (EUV) 微影曝光設備。雖仍可交貨較不先進的深紫外光 (DUV) 微影曝光設備，但情況不久後就會改變。荷蘭政府預定夏季會有更多限制。分析師表示，ASML 對荷蘭政府影響不大，因荷蘭缺乏南韓應付風險時必須保護公司利益的戰略靈活性。

(首圖來源：ASML)