ASML 第三代標準 EUV 曝光機問世,每套價格約 1.8 億美元 作者 Atkinson | 發布日期 2024 年 03 月 18 日 18:45 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 | edit Loading... Now Translating... 外媒報導,曝光機大廠艾司摩爾 (ASML) 交貨第三代標準型極紫外(EUV)曝光機,新設備型號為 Twinscan NXE:3800E,0.33 數值孔徑透鏡,較舊型號 Twinscan NXE:3600D 的標準型曝光機,性能提高,支援幾年內 3 奈米及 2 奈米晶片製造。 文章看完覺得有幫助,何不給我們一個鼓勵 請我們喝杯咖啡 想請我們喝幾杯咖啡? 每杯咖啡 65 元 x 1 x 3 x 5 x 您的咖啡贊助將是讓我們持續走下去的動力 總金額共新臺幣 0 元 《關於請喝咖啡的 Q & A》 留給我們的話 取消 確認 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: 3 奈米 , ASML , EUV , Twinscan NXE:3800E , 半導體設備 , 台積電 , 艾斯摩爾