輝達(NVIDIA)執行長黃仁勳今日抵台後直奔矽品台中潭子新廠,參加新廠揭幕儀式。問及 CoWoS 先進封裝產能時,黃仁勳指輝達 Blackwell 平台 CoWoS- L 產能增加,整體 CoWoS 產能並沒有減少,2025 年 CoWoS 整體產能還將大幅提升。
黃仁勳參加矽品台中潭子新廠揭幕儀式後,面對記者詢問輝達 Blackwell 平台將採用 CoWoS-L 先進封裝製程,這是否使得 CoWoS-S 訂單會有減少的情況。黃仁勳表示,輝達在 Hopper 平台會持續採用 CoWoS-S 先進封裝技術。未來,輝達因為 Blackwell 平台的進入量產,將從 CoWoS-S 逐步轉移到更高階的 CoWoS-L 先進封裝技術上。因此,在整體 CoWoS-L 產能增加情況下,CoWoS 整體產能沒有減少的問題。
黃仁勳還表示,輝達對 CoWoS 先進封裝需求短期內大幅增加,CoWoS 製程技術相當複雜,而輝達和台灣供應鏈合作,以令人驚訝的速度在短短時間內大幅增加 CoWoS 產能,這是台灣的奇蹟,也已經使得目前輝達目前擁有的 CoWoS 產能已經達兩年前四倍。
近期市場傳出 GB200 伺服器有散熱問題,黃仁勳不諱言,Blackwell 平台散熱技術複雜,但 Blackwell 平台全面量產,初期挑戰比較多很正常。問題已改善,Blackwell 平台開始銷售全球。
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(首圖來源:科技新報攝)