ASML 宣布首款 0.55 數值孔徑(High-NA)EUV 曝光設備已列印出第一個圖案。最新貼文,High-NA EUV 系統成功列印出第一條 10 奈米密集線(dense lines)。 繼續閱讀..
紀念性一刻!ASML 最新 High-NA EUV,成功印首條 10 奈米密集線 |
作者 林 妤柔|發布日期 2024 年 04 月 18 日 16:28 | 分類 半導體 , 材料、設備 |
Touch Taiwan 下週登場!楊柱祥樂觀看 Micro LED 產業:短空長多 |
作者 林 妤柔|發布日期 2024 年 04 月 17 日 14:58 | 分類 光電科技 , 面板 | edit |
Touch Taiwan 2024 將於 4 月 24 日至 26 日在南港展覽館登場,今年展覽以「Lead to Infinity 引領無限未來」為主軸,集結 10 國、312 家指標廠商,且今年同期舉辦首屆「電子生產製造設備展」,展示範圍涵蓋半導體封裝與組裝設備、化合物半導體材料/設備、Micro LED 生產製造設備、電子生產製造設備、動力/儲能電池生產製造設備等項目,透過展覽邀請廠商與跨域夥伴們一起打造合作生態系,引領更多無限商機。 繼續閱讀..