綜合外電報導,荷蘭半導體設備大廠 ASML 傳出在極紫外光(EUV)技術上取得關鍵進展,規劃將光源功率由 600W 提升至 1,000W。若新方案順利導入,晶圓產能有望提升約 50%,且無需額外擴建無塵室或新增整套機台。 繼續閱讀..
ASML 擬升級 EUV 光源至 1,000W,晶圓產能有望提升 50% |
| 作者 蘇 子芸|發布日期 2026 年 02 月 24 日 9:45 | 分類 半導體 , 晶圓 |



