隨著半導體製程邁向 3 奈米以下節點,先進製程微縮技術已逐步逼近物理極限。日前英特爾(Intel)高層卻罕見公開指出,晶片製造流程未來將不再圍繞「光罩技術」打轉,而是由電晶體架構根本性變革所主導,這發這也讓 ASML 新一代的 High-NA EUV 的廣泛採用添加了隱憂。 繼續閱讀..
ASML 地位鬆動?英特爾:未來高階晶片減少依賴先進光罩設備 |
| 作者 蘇 子芸|發布日期 2025 年 06 月 20 日 12:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 |



