Tag Archives: 半導體設備

銩雷射取代 EUV 二氧化碳雷射，節能高效率生產晶片
作者 |發布日期 2025 年 01 月 06 日 9:00 |
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分類 光電科技 , 半導體 , 晶片

外媒報導，美國勞倫斯利弗莫爾國家實驗室（Lawrence Livermore National Laboratory，LLNL）正在研發銩元素的拍瓦（petawatt）級雷射，有望取代極紫外光曝光（EUV）二氧化碳雷射，並將光源效率提升約十倍，可能為超越 EUV 微影曝光設備開啟新局，以更快速度和更低能耗製造晶片。

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東京威力科創目標 AI 晶片設備明年占比四成，彌補中國市場放緩
作者 |發布日期 2024 年 12 月 20 日 18:25 |
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分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備

日本晶片製造設備大廠東京威力科創（TEL）預期在下一財年提升人工智慧（AI）相關業務的銷售額，以彌補中國市場業務放緩。東京威力科創財務部長、資深副總裁 Hiroshi Kawamoto 接受日經採訪時表示，公司目標是下一財年（截至 2026 年 3 月），讓 AI 在晶圓廠設備（WFE）銷量比例占達「約 40%」。 繼續閱讀..

如何出口限令爭取空間、維持中國銷售，成美晶片設備商難題
作者 |發布日期 2024 年 12 月 14 日 8:00 |
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分類 半導體 , 國際貿易 , 材料、設備

根據《紐約時報》報導，拜登政府考慮停止向三間中國公司出售半導體設備，因為與華為有關聯。但消息一出，美國半導體設備大廠應用材料（Applied Materials）、科磊（KLA）、科林研發（Lam Research）紛紛跳出來喊話，表示三間中國公司是主要營收來源。 繼續閱讀..

家登 11 月營收年增 77%，累計前 11 個月營收年增達 31%
作者 |發布日期 2024 年 12 月 10 日 9:10 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

半導體運送保護解決方案整合服務商家登精密公布 2024 年 11 月營收，集團合併營收約為新台幣 5.02 億元，較上個月成長 29%，較 2023 年同期成長 77%。累計，前 11 個月營收 59.6 億元，較 2023 年同期成長約 31%。家登表示，12 月進入出貨高峰期，從物料到到成品，家登全產線進入備貨狀態，全力衝刺第四季營運表現。

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中芯國際新製程發展難突破，華為到 2026 年仍依賴有限 7 奈米
作者 |發布日期 2024 年 11 月 22 日 9:00 |
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分類 IC 設計 , 中國觀察 , 半導體

外媒報導，今年稍早華為和中芯國際開發 5 奈米製程，達成新里程碑。但晶圓是中芯國際用較舊 DUV 曝光機生產，故良率悽慘。現階段這問題也延續至 7 奈米製程，且台積電早在 2018 年就量產 7 奈米，代表中芯國際落後競爭對手多世代。

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AI 晶片需求快速成長，推動台積電積極部署與發展 High-NA EUV 製程
作者 |發布日期 2024 年 11 月 18 日 16:45 |
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分類 AI 人工智慧 , IC 設計 , 半導體

媒體報導，先前市場消息指出，台積電已經於 2024 年 9 月份從荷蘭半導體設備商艾司摩爾 (ASML) 接收首套高數值孔徑 (High-NA) 極紫外線 (EUV) 曝光機-EXE:5000。這代表著台積電對這項先進半導體技術不斷變化的立場，從一開始持謹慎，到後來全面發展採用，為的就是保持其在競爭激烈的半導體產業中維持領先地位，也因應 AI 晶片對先進製程需求的快速成長。

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2025 年川普回歸白宮，市場預測半導體設備廠商寒冬開始
作者 |發布日期 2024 年 11 月 18 日 16:05 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

外媒報導，全球最大的半導體設備企業的應用材料 (Applied Materials, Inc.)，因中國市場的營收大幅下滑，日前發表了不如市場預期的獲利預測。先前，全球最大半導體曝光機廠商艾司摩爾 (ASML) 也因為中國市場的業績受到衝擊，還有日本半導體大廠東京威力科創 (TEL) 也因中國市場占有率的迅速下降，這些狀況都讓市場擔心半導體設備廠商的冬天將要來臨。

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