ASML 極紫外光微影系統，刷新生產力紀錄 |
作者
TechNews|發布日期
2015 年 02 月 24 日 19:10 |
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全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾（ASML）今日證實該公司的 NXE:3300B EUV 極紫外光（EUV）微影系統在 TSMC 成功達到單日曝光超過 1,000 片晶圓的目標，不但再次刷新 EUV 微影系統生產力新紀錄，更為 EUV 微影技術用於先進製程量產注入強心針。
緊跟台積電！韓媒：三星、SK 海力士明年買 EUV 機台 |
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作者
MoneyDJ|發布日期
2014 年 11 月 27 日 15:00 |
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台積電率先下單訂購艾司摩爾（ASML）的極紫外光（EUV）微影設備，韓媒稱，三星電子（Samsung Electronics）和 SK 海力士（SK Hynix）明年也會跟進下單，微縮戰火將益發白熱化。 繼續閱讀..
