Tag Archives: ASML

三星反擊台積電,準備採購 EUV 設備在 7 奈米製程上贏回蘋果

作者 |發布日期 2016 年 05 月 16 日 9:00 | 分類 Samsung , 國際貿易 , 晶片

根據南韓媒體 Korea Times 報導,晶圓代工龍頭台積電在獨家承攬蘋果 iPhone 7 的 A10 處理器代工訂單之後,可以說是對三星電子 (SAMSUNG) 一次的重大勝利。但是,為了能在未來板回劣勢,三星電子本月由一位執行副總領帶隊,親赴全球半導體微影技術設備商荷蘭 ASML 總公司,敲定將至少耗資數百萬美元,採購 ASML 的最新 EUV (極紫外光)微影設備,用於三星 7 奈米的製程上,並且先在 2017 年就搶先投入 7 奈米先進製程的試產上。

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ASML 2015 年第二季營收達 16.5 億歐元

作者 |發布日期 2015 年 07 月 15 日 17:35 | 分類 市場動態 , 晶片 , 零組件

ASML 總裁暨執行長溫彼得(Peter Wennink)表示,「我們 2015 年第二季的營收淨額略高於預期。來自記憶體和邏輯 IC 客戶的訂單相當平均。日前與我們簽下大量採購協議的美國客戶,在本季下單 6 台 EUV 系統,其中有 2 台將於今年出貨,另外 4 台則於明年出貨。目前 EUV 的未出貨訂單(backlog)共有 8 台。為了準備試產,近日許多客戶都不斷的在其 NXE:3300B 系統上進行馬拉松測試。而從我們的 EUV 技術進展來看,我們相信 EUV 已經來越接近可量產的階段。至於客戶何時會正式將 EUV 用於量產,將取決於 EUV 系統在妥善率方面是否準備就緒,以及多重曝光技術的複雜度及整體成本考量。對我們來說,提高 EUV 系統的妥善率與整體生產力是我們當前聚焦的重點。」「由於記憶體和晶圓代工客戶的需求較我們先前預估的強勁,且我們來自於服務方面的業務持續增加,我們對於 2015 年下半年的業務審慎樂觀,全年表現將有機會高於預期。」

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ASML 獲美國客戶大單,15 台 EUV 極紫外光系統待出貨

作者 |發布日期 2015 年 04 月 22 日 17:50 | 分類 市場動態 , 零組件

全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)今日宣布接獲一家美國主要客戶的訂單──至少採購 15 台 EUV 極紫外光微影系統。該客戶預計將 EUV 微影系統用於未來先進製程中,支援其新世代產品的研發和試產。其中,2 台 NXE:3350B 預計於 2015 年底前完成出貨。

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ASML 連續六年獲 Intel 優質供應商獎

作者 |發布日期 2015 年 03 月 10 日 15:30 | 分類 市場動態 , 零組件

全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)上周獲得半導體巨擘英特爾(Intel)的卓越供應商 獎。艾司摩爾為英特爾提供半導體微影設備多年,透過優異的產品技術和品質、成本、妥善率、 客戶服務、勞工與倫理系統,以及環境永續等各方面的卓越貢獻。英特爾特別肯定 ASML 為其提 供優異的半導體微影設備,是幫助該公司維繫成功的重要夥伴。

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艾司摩爾在中國的銷售狀況是否能預測產業狀況?

作者 |發布日期 2015 年 03 月 05 日 16:18 | 分類 中國觀察 , 晶片 , 會員專區

艾司摩爾 (ASML) 是荷蘭的半導體設備生產商,生產的光刻機在半導體製程扮演重要角色,市佔為第一名,遠遠超過日本的 Canon 和 Nikon。但在中國的營業數據很有趣,前一季還有 7% 銷售比率,但過了一季比率太小沒顯示在圓餅圖中,是否意味中國半導體產業有不好的事情發生?

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ASML 極紫外光微影系統,刷新生產力紀錄

作者 |發布日期 2015 年 02 月 24 日 19:10 | 分類 零組件

全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)今日證實該公司的 NXE:3300B EUV 極紫外光(EUV)微影系統在 TSMC 成功達到單日曝光超過 1,000 片晶圓的目標,不但再次刷新 EUV 微影系統生產力新紀錄,更為 EUV 微影技術用於先進製程量產注入強心針。

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