Tag Archives: ASML

ASML 延後中國企業訂單出貨,光刻設備恐淪為貿易戰武器

作者 |發布日期 2019 年 11 月 07 日 9:00 | 分類 國際貿易 , 晶圓 , 晶片

美中貿易戰的狀況,原本市場人士都預料將會有所和緩。不料,在日前傳出美國政府關切晶圓代工龍頭台積電供貨給中國華為,並希望限制供應的消息之後。雖然,整件事情遭到台積電官方的否認,但是相關事件仍持續發酵中。根據 《日經亞洲評論》 引用知情人士的消息報導指出,目前美國政府相關關切對中國企業供貨的態度,焦點也轉到了全球最大半導體光刻機供應商艾司摩爾 (ASML) 的身上,也就是 2018 年 4 月份,中國最大晶圓代工商中芯國際向 ASML 訂購的光刻機設備,目前正等待美國政府的批准,暫時延後出貨中。

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韓媒:台積電獨吞華為大單,三星離 2030 年成系統半導體龍頭漸遠

作者 |發布日期 2019 年 11 月 06 日 15:40 | 分類 Samsung , 中國觀察 , 國際貿易

日前傳出美國政府關切台灣晶圓代工龍頭台積電供貨給中國華為的事情,並希望能限制供貨。雖然此消息遭到了台積電的否認,但是後續的情勢仍在持續發酵中。根據南韓媒體《BusinessKorea》報導,市場人士指出,隨著中國華為與台積電之間的合作關係持續緊密的情況下,三星之前誓言要在 2030 年成為系統半導體領域的龍頭的機會也越來越渺茫。

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半導體先進製程發展擴大 EUV 市場需求,ASML 可望持續受惠

作者 |發布日期 2019 年 06 月 10 日 9:00 | 分類 光電科技 , 國際貿易 , 晶片

先進製程奈米節點持續微縮下,光刻機是重要關鍵設備。12 吋晶圓主要光刻機為 ArF immersion 機台,可涵蓋 45nm 一路往下到 7nm 節點的使用範圍,雷射光波長最小微縮到 193nm;針對 7nm 節點以下製程,EUV(Extreme Ultra-Violet)極紫外光使用光源波長為 13.5nm,確保先進製程持續發展的可能性。 繼續閱讀..

EUV 設備每台重量高達 180 公噸,每次運輸必須動用 3 架次貨機

作者 |發布日期 2019 年 06 月 06 日 15:45 | 分類 國際貿易 , 晶圓 , 會員專區

晶圓製造產業進入 7 奈米製程之後,目前全世界僅剩台積電與三星,再加上號稱自家 10 奈米製程優於競爭對手 7 奈米製程的英特爾等,有繼續開發能力之外,其他競爭者因須耗費大量金錢與人力物力的情況下,都已宣布放棄。就在 7 奈米製程節點以下先進製程的領域,必不可少的關鍵就是極紫外線微影(EUV)設備導入。除了三星用在首代 7 奈米 LPP 製程,台積電也自 2019 年開始,將 EUV 導入加強版 7 奈米+ 製程。

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晶片設備商艾司摩爾首季財報讚,台灣躍居最大市場

作者 |發布日期 2019 年 04 月 17 日 16:30 | 分類 材料、設備 , 財報 , 財經

歐洲最大半導體設備供應商艾司摩爾(ASML Holding NV)17 日發表 2019 年第 1 季(至 2019 年 3 月 31 日)財報:營收年減 2.5% 季減 29.1% 至 22.291 億歐元,優於 3 個月前預期的 21.0 億歐元;毛利率報 41.6%,低於 2018 年第 4 季的 44.3% 及 2018 年第 1 季的 48.7%,但高於 3 個月前預期的 40%;純益年減 34.2% 季減 55% 至 3.55 億歐元;淨訂單金額季減 11.9% 至 13.99 億歐元。根據 Thomson Reuters 調查,分析師預期艾司摩爾第 1 季營收、純益各為 21.2 億歐元、1.97 億歐元。 繼續閱讀..

ASML 2018 年營收創新高,EUV 2019 年將出貨 30 台為成長主力

作者 |發布日期 2019 年 01 月 25 日 12:10 | 分類 國際貿易 , 晶圓 , 晶片

在晶圓龍頭台積電推向 7 奈米製程,甚至在 2020 年將要推出 5 奈米製程的情況下,極紫外光刻設備(EUV)就成為製程其中不可或缺的設備。而全球幾乎獨攬這項設備生產的荷蘭商艾司摩爾(ASML)也因為市場需求的持續不斷,使得 2018 年全年的營收創新高紀錄。

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傳中向美提 1 兆美元採購案,道瓊升高、週 K 連四紅

作者 |發布日期 2019 年 01 月 21 日 8:30 | 分類 財經

中美貿易談判連續兩個交易日傳出利多,帶動美國四大指數在週五(1/18)躍升至 6 週高,但英特爾(Intel Corp.)等重量級企業即將公布財報,仍讓投資人不敢輕舉妄動,市場交投顯得清淡。美國股市週一(1/21)因馬丁路德金紀念日(Martin Luther King Jr. holiday)休市一天。 繼續閱讀..

美國祭出司法制裁後,福建晉華供應商無預警撤出

作者 |發布日期 2018 年 11 月 28 日 8:00 | 分類 中國觀察 , 國際貿易 , 國際金融

美國 10 月 31 日禁止技術出口中國禁令發布,中國媒體報導,美國設備商應用材料(Applied Materials)的人員隨即開始打包,科磊(KLA-Tencor Corp.)和科林研發(Lam Research Corp.)也召回旗下工程師,就連掌握下一代半導體製程關鍵技術 EUV 的荷蘭廠商 ASML,也在幾天內撤出。 繼續閱讀..

艾司摩爾第一季營收表現強勁,全年前景樂觀

作者 |發布日期 2018 年 04 月 19 日 15:10 | 分類 晶片 , 材料、設備 , 財經

半導體微影技術廠商艾司摩爾(ASML)公佈 2018 第一季財報。ASML 第一季營收淨額(net sales)22.9 億歐元,淨收入 5.4 億歐元,毛利率(gross margin)為 48.7%。預估 2018 第二季營收淨額(net sales)將落在 25 億至 26 億歐元之間,毛利率(gross margin)約為 43%,反映 EUV 營收將大幅增加。 繼續閱讀..

艾司摩爾 2017 年第 16 次登半導體微影設備龍頭,預計積極增產

作者 |發布日期 2018 年 02 月 13 日 17:30 | 分類 國際貿易 , 奈米 , 會員專區

根據美國研究調查機構 De Information Network 的研究資料顯示,2017 年全球半導體光刻設備,荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 仍以 85% 的市占率穩居龍頭,其次是日本廠商尼康 (Nikon) 的 10.3%,以及佳能 (Canon) 的 4.3%。這樣的市占率表現讓 ASML 連續 16 年穩居市場第一的寶座。

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EUV 設備供不應求,使得 ASML 股價一年內大漲 30%

作者 |發布日期 2017 年 07 月 21 日 18:10 | 分類 國際貿易 , 晶片 , 會員專區

受惠於各家晶圓代工廠,包括台積電、三星、格羅方德等企業紛紛宣布將在 2018 年導入 7 奈米先進製程的情況下,EUV 極紫外線光刻機在其中所扮演的關鍵角色就越來越重要。而目前做為光刻機的龍頭老大荷蘭艾斯摩爾 (ASML) 佔據著高達 80% 的市場佔有率,壟斷了高階光刻機的市場。過去,在 14 及 16 奈米製程階段,各家代工廠的及紫外線光刻機都是來自 ASML。因此,不但帶動了 2017 年 ASML 整體營收成長 25%,未來更被看好後續的發展狀況。

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