Tag Archives: EUV

追英特爾甩三星,台積電誓言 2016 十奈米量產

作者 |發布日期 2015 年 04 月 08 日 12:38 | 分類 晶片 , 會員專區

半導體產業的奈米大戰一路打下來,從 2X 奈米廝殺到 1X 奈米製程,隨著英特爾、三星連格羅方德都喊出 14 奈米量產,使得目前最先進製程仍在 16 奈米的台積電備感壓力,英特爾與三星日前宣示 2016 年量產 10 奈米,台積電也加緊腳步,誓言在下世代製程要搶回領先優勢。 繼續閱讀..

大摩報告:想追上 Intel,台積電 10 奈米需仰賴 EUV 技術

作者 |發布日期 2015 年 03 月 24 日 10:39 | 分類 晶片 , 會員專區 , 零組件

半導體產業近 50 年來一直在摩爾定律上發展,但自 28 奈米製程以來,卻因技術限制而漸漸背離,然而 Morgan Stanley 研究報告認為,若晶圓廠採用極紫外光(Extreme Ultraviolet,EUV )微影技術於 10 奈米製程,將有助於半導體產業回歸到摩爾定律上發展;Morgan Stanley 也認為,在 10 奈米製程大幅落後 Intel 的台積電,也有望靠著 EUV 迎頭趕上,消息一出,17 日台積電股價創下半個多月來最高漲幅。

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台積電 10 奈米技術提升,外資看好其成長貢獻潛力

作者 |發布日期 2015 年 03 月 18 日 10:06 | 分類 Apple , 零組件

據外資圈傳出,由於台積電 10 奈米製程技術大幅提升,先前將 14 奈米交由英特爾代工的阿爾特拉(Altera),擬於 10 奈米方面在台積電與英特爾中擇一作為合作夥伴,預計本季可拍板定案,若訂單重回台積電,則可望成為拿到蘋果 A8 訂單後的另一大利多。另外,台積電共同執行長劉德音 18 日將出席美銀美林證券投資論壇說明未來營運藍圖,據昨日參與台積電小型座談的機構法人表示,台積電對後市看法樂觀,可望穩定法人對其持股信心。

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ASML 連續六年獲 Intel 優質供應商獎

作者 |發布日期 2015 年 03 月 10 日 15:30 | 分類 市場動態 , 零組件

全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)上周獲得半導體巨擘英特爾(Intel)的卓越供應商 獎。艾司摩爾為英特爾提供半導體微影設備多年,透過優異的產品技術和品質、成本、妥善率、 客戶服務、勞工與倫理系統,以及環境永續等各方面的卓越貢獻。英特爾特別肯定 ASML 為其提 供優異的半導體微影設備,是幫助該公司維繫成功的重要夥伴。

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ASML 極紫外光微影系統,刷新生產力紀錄

作者 |發布日期 2015 年 02 月 24 日 19:10 | 分類 零組件

全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)今日證實該公司的 NXE:3300B EUV 極紫外光(EUV)微影系統在 TSMC 成功達到單日曝光超過 1,000 片晶圓的目標,不但再次刷新 EUV 微影系統生產力新紀錄,更為 EUV 微影技術用於先進製程量產注入強心針。

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物聯網中興了半導體產業 SEMICON TAIWAN 2014 展場直擊

作者 |發布日期 2014 年 09 月 05 日 17:58 | 分類 奈米 , 晶片 , 會員專區

台灣半導體產業最重要的一個年度展覽是 SEMICON2014,這次在台北南港展覽館舉辦,展中主要聚焦的新技術仍舊是圍繞在設備與材料方面,但整個大會中有不少研討會都規劃出半導體產業未來的趨勢、機會和挑戰,特別是全球幾間大的半導體廠都繼續擴大對晶圓廠 (Foundry) 的資本支出 (WPE),設備廠與材料廠近年在半導體產業的收益頗豐,也看好 2015 年的半導體景氣。

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