Tag Archives: EUV

美國聯合荷、日將嚴控成熟製程設備出口中國，衝擊中國半導體甚大
作者 |發布日期 2022 年 12 月 13 日 9:40 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

外媒報導，日本和荷蘭原則上同意美國，共同加強限制出口中國先進晶片製造設備，市場人士表示，這次限制 16 奈米節點製程沉浸式深紫外光微影曝光設備 (DUV)，雖用於 16 奈米節點製程，但業界廣泛用於 40 奈米成熟製程到 7 奈米以下先進製程，甚至部分用於 5 奈米製程。美國成功號召荷蘭與日本廠商加入限制行列，代表中國 40 奈米以下設備都將很難取得，對產業發展阻礙甚大。

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荷蘭不願限制中國出口統一口徑，美國持續施壓
作者 |發布日期 2022 年 12 月 05 日 15:10 |
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分類 半導體 , 國際貿易 , 材料、設備

外媒報導，半導體微影曝光設備大廠荷蘭商艾斯摩爾 (ASML) 持續受美國政府施壓，要求 ASML 限制出口微影曝光設備至中國。發言人表示，由於荷蘭各種出口限制，使 ASML 自 2019 年一直無法出口中國最先進 EUV 微影曝光設備，但新出口管制措施對 ASML 2023 年整體出貨計畫衝擊有限。

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美光跳過 EUV 廣島廠量產 1β 製程 DRAM，成本優勢具競爭力
作者 |發布日期 2022 年 11 月 02 日 12:40 |
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分類 半導體 , 晶片 , 記憶體

記憶體大廠美光（Mircon）今日宣布，為特定智慧手機製造商與晶片組合作夥伴提供 1β（1-beta）DRAM 驗證樣品，全球最先進 DRAM 製程節點 1β 量產全面就緒。新世代製程技術率先用於美光 LPDDR5X 行動記憶體，最高速度每秒 8.5Gb，也是繼三星同樣最高速度每秒 8.5Gb LPDDR5X DRAM 之後，第二家推出同等級產品的廠商，也是首家不採 EUV 微影曝光設備生產 1β 節點的記憶體廠，成本優勢可強化市場競爭力。

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外媒指 EUV 是節能減碳巨大絆腳石，台韓都面臨再生能源短缺
作者 |發布日期 2022 年 10 月 24 日 18:30 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

彭博社報導，先進半導體製程不可或缺的 EUV 微影曝光設備，可說是現代工程奇蹟。荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 生產的半導體設備，不但每套價值 1.5 億美元，更由 10 萬個零件組成，是生產個位數奈米級晶片的重要設備。只是一套 EUV 微影曝光設備每年耗電量達 1 兆瓦，是前幾代設備 10 倍，還沒有替代品的情況下，半導體產業還是全球推動節能減碳的巨大絆腳石。

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