Tag Archives: EUV

中芯國際新製程發展難突破，華為到 2026 年仍依賴有限 7 奈米
作者 |發布日期 2024 年 11 月 22 日 9:00 |
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分類 IC 設計 , 中國觀察 , 半導體

外媒報導，今年稍早華為和中芯國際開發 5 奈米製程，達成新里程碑。但晶圓是中芯國際用較舊 DUV 曝光機生產，故良率悽慘。現階段這問題也延續至 7 奈米製程，且台積電早在 2018 年就量產 7 奈米，代表中芯國際落後競爭對手多世代。

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2030 年全球晶圓廠 EUV 每年耗電量，超過新加坡或希臘用電總合
作者 |發布日期 2024 年 11 月 02 日 13:30 |
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分類 半導體 , 材料、設備 , 能源科技

極紫外光（EUV）微影曝光是未來幾年現代半導體製程技術不可或缺的關鍵，然每台 EUV 設備消耗 1,400KW 電力，相當於一個小城市的電力消耗，使 EUV 曝光系統成為一個巨大的電力消耗者，對環境產生影響。TechInsights 研究報告指出，到 2030 年，所有配備 EUV 微影設備的晶圓廠，其總耗電量將超過每年 54,000 GW，這比許多國家，包括新加坡或希臘每年消耗的電力還要多。

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家登 9 月營收年增 17%，第三季營收創歷史新高
作者 |發布日期 2024 年 10 月 09 日 10:10 |
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分類 半導體 , 財報 , 財經

半導體設備商家登精密公布 2024 年 9 月營收報告，集團合併營收約為新台幣 6.07 億元，年成長達 17%。合計，第三季營收 18.9 億元，再次寫下歷史新高。累計，2024 年集團累積營收約 50.7 億元，較 2023 年同期成長 35%，已相當於 2023 年全年營收。家登表示，第三季進入半導體旺季，全球光罩暨晶圓產品出貨暢旺，本業晶圓載具及光罩載具齊發威，帶動營收、毛利雙成長。

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家登旗下家碩科技南科廠動土，因應後續先進製程市場發展需求
作者 |發布日期 2024 年 09 月 11 日 12:45 |
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分類 公司治理 , 半導體 , 材料、設備

半導體設備廠家登精密旗下子公司家碩科技，於 2024 年 9 月 11 日舉行新廠動土典禮。本次典禮由家碩科技董事長邱銘乾主持，並邀請南部科學園區管理局局長鄭秀絨、台南市經發局副局長蕭富仁及台南市政府副秘書長殷世熙等各界貴賓蒞臨，共同見證家碩科技新廠動土之歷史時刻。

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