英特格新一代光罩盒通過 ASML 認證,可用於 EUV 技術生產製程

作者 | 發布日期 2018 年 08 月 22 日 14:30 | 分類 晶片 , 材料、設備 , 處理器 follow us in feedly

微電子產業特種化學品和材料解決方案廠商英特格(Entegris)宣布,新一代光罩盒已獲得半導體生產設備商艾司摩爾(ASML)認證,可用於極紫外光(EUV)微影技術的晶片大量生產,用以保護製造過程中光罩的完整。




英特格表示,日前公司正式發表下一代 EUV 1010 光罩盒,可用於 EUV 微影技術大量生產的半導體製造。英特格進一步指出,EUV 1010 光罩盒是透過與全球最大晶片生產設備製造商之一的 ASML 密切合作開發,率先成為全世界第一個獲得 ASML 認證,可用於 NXE:3400B 及未來更先進機台的光罩盒產品。

英特格還表示,隨著半導體產業開始大量使用 EUV 微影技術進行先進技術節點的大量製造,保持 EUV 光罩無缺陷的要求比以往任何時候都高。英特格 EUV 1010 光罩盒已通過 ASML 全面認證,可用於其最新 EUV 微影機,並展現對 EUV 光罩的保護能力,包括解決最關鍵的粒子污染挑戰。英特格的 EUV 1010 光罩盒因此讓客戶順利使用最先進的微影製程,製造產品所需越來越小的線寬。

為了在 ASML 的 NXE:3400B 微影機達成此性能水準,英特格開發出用於接觸光罩和控制環境的新型技術。英特格晶圓和光罩處理副總裁 Paul Magoon 表示,EUV 1010 代表英特格產品在改進缺陷率方面的重大突破,讓實施先進技術節點的客戶,可專注於提高效率和產量。最後,與 ASML 共同開發和測試,也確保 EUV 1010 符合最先進的 EUV 微影機要求。

(首圖來源:shutterstock)