微電子產業特種化學品和材料解決方案廠商英特格（Entegris）宣布，新一代光罩盒已獲得半導體生產設備商艾司摩爾（ASML）認證，可用於極紫外光（EUV）微影技術的晶片大量生產，用以保護製造過程中光罩的完整。
英特格表示，日前公司正式發表下一代 EUV 1010 光罩盒，可用於 EUV 微影技術大量生產的半導體製造。英特格進一步指出，EUV 1010 光罩盒是透過與全球最大晶片生產設備製造商之一的 ASML 密切合作開發，率先成為全世界第一個獲得 ASML 認證，可用於 NXE:3400B 及未來更先進機台的光罩盒產品。
英特格還表示，隨著半導體產業開始大量使用 EUV 微影技術進行先進技術節點的大量製造，保持 EUV 光罩無缺陷的要求比以往任何時候都高。英特格 EUV 1010 光罩盒已通過 ASML 全面認證，可用於其最新 EUV 微影機，並展現對 EUV 光罩的保護能力，包括解決最關鍵的粒子污染挑戰。英特格的 EUV 1010 光罩盒因此讓客戶順利使用最先進的微影製程，製造產品所需越來越小的線寬。
為了在 ASML 的 NXE:3400B 微影機達成此性能水準，英特格開發出用於接觸光罩和控制環境的新型技術。英特格晶圓和光罩處理副總裁 Paul Magoon 表示，EUV 1010 代表英特格產品在改進缺陷率方面的重大突破，讓實施先進技術節點的客戶，可專注於提高效率和產量。最後，與 ASML 共同開發和測試，也確保 EUV 1010 符合最先進的 EUV 微影機要求。
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