美國恐進一步限制 DUV 出口中國,三星與 SK 海力士憂受衝擊

作者 | 發布日期 2021 年 04 月 13 日 17:50 | 分類 國際貿易 , 晶片 , 材料、設備 Telegram share ! follow us in feedly


針對全球性的晶片缺貨問題,美國拜登政府才在 14 日邀集包括美國歐半導體設備大廠,汽車製造廠商、台灣台積電與南韓三星等重量級晶圓代工廠共同參加會議,以討論解決由美國所主導的半導體供應鏈失衡的情況。而在此同時,南韓媒體報導,面對中國積極發展半導體產業的態度,美國政府恐怕不僅將禁止極紫外光(EUV)曝光機的出口到中國,恐怕連浸潤式 ArF 深紫外光(DUV)曝光設備都將被列入禁止出口中國品項。

南韓媒體《BusinessKorea》最新報導指出,美國拜登政府為限制中國在半導體產業中的地位,日前由美國國家人工智慧安全委員會提出了一項政策,希望禁止向中國出口包括浸潤式 ArF 深紫外光的曝光機在內的半導體製造設備。而如果一旦這項計畫付諸施行,則目前在中國設有大型晶圓廠的三星與 SK 海力士等南韓記憶體大廠擔心,未來將可能受到進一步的衝擊。

報導指出,之前歐盟委員會曾經表示,為了限制中國在半導體產業的地位,美國政府必須與荷蘭及日本政府合作,限制相關半導體設備出口到中國。因為前一任的美國川普政府已經阻止了荷蘭商曝光機大廠艾司摩爾(ASML)出口 EUV 曝光機到中國的計畫。所以,一旦也限制浸潤式 ArF 深紫外光曝光機出口到中國,則顯示美國禁止更多的半導體設備出口到中國。

如果美國政府決定禁止包括浸潤式 ArF 深紫外光曝光機在內的更多半導體設備出口到中國,則目前在中國設有大型晶圓廠的南韓三星與 SK 海力士兩家執記憶體市場牛耳的廠商,擔心其在中國的投資將會受到衝擊。目前,三星在中國西安設有生產記憶體的晶圓廠,目前正在生產第 6 代 3D V-NAND。而 SK 海力士則是將工廠設在中國無錫,目前該工廠也在生產 10 奈米級的 DRAM。而在三星與 SK 海力士在中國的工廠中,目前都採用到了浸潤式 ArF 深紫外光曝光機。

報導進一步指出,目前中國政府正在與三星討論,希望三星能及早完成在西安工廠相關投資。另外,在 SK 海力士的方面,面對當前全球晶片缺貨的情況,SK 海力士在中國無錫工廠也正開始的相關的晶圓代工計畫。因此,如果未來美國政府進一步收緊對中國出口半導體設備的情況,有中國學者認為,美國將很難准許南韓企業在中國使用具備美國技術的半導體設備。因此這對兩家公司來說,在未來製造技術的發展上,恐將面臨很大的麻煩。

(首圖來源:shutterstock)