韓媒：三星平澤 2 廠 6 月上線，晶圓代工、記憶體供給將增加

全球半導體供給緊張，三星電子位於南韓平澤（Pyeongtaek）的第二工廠，最快會在今年 6 月上線，可望提供更多晶圓代工產能、並生產更多記憶體。

BusinessKorea 16 日報導，三星平澤一廠（P1）於 2017 年 6 月量產，該公司隨後在 2018 年動工興建二廠（P2）。新廠已在去年下半使用極紫外光（EUV）微影技術，量產第三代 10 奈米 LPDDR5 行動 DRAM。

今年下半，平澤二廠將啟用新的晶圓代工產線和次世代 V-NAND flash 產線。三星高層透露，平澤二廠的所有產線，將一如預期在 2021 年下半投產。業界內部人士透露：「據我所知，平澤二廠從 2021 年初開始，持續提高運作率」。

三星電子 2020 年 5 月新聞稿表示，平澤廠的新晶圓代工產線，以 EUV 為基礎的 5 奈米產線為主，預定 2021 年下半全面啟用。新產線將協助三星擴大採用最先進的製程技術，用於 5G、高效能運算（HPC）、人工智慧（AI）等。

（本文由 MoneyDJ新聞授權轉載；首圖來源：Flickr/Insider Monkey CC BY 2.0）