美國限制中國半導體技術,議員提案 EDA 銷售中國需許可

作者 | 發布日期 2021 年 04 月 16 日 13:45 | 分類 IC 設計 , 國際貿易 , 會員專區 line share follow us in feedly line share
美國限制中國半導體技術,議員提案 EDA 銷售中國需許可


美國拜登政府宣布禁售令制裁 7 家協助中國軍方發展超級電腦的中國企業與單位後,隨即傳出拜登政府正考慮除了極紫外光曝光機(EUV),還要把用於晶片成熟製程的浸潤式 ArF 深紫外光曝光機(DUV)也列入禁售產品名單。16 日外媒報導,美國國會議員致函,要求美國政府將電子設計自動化軟體(EDA)也列入禁售產品清單,限縮中國先進晶片設計生產。