荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASML Holding NV）生產的極紫外光（EUV）微影設備，對於晶圓代工大廠的先進製程至關重要。南韓政府宣布，ASML 計畫赴南韓打造 EUV 再製（remanufacturing）廠及訓練中心。
BusinessKorea、韓國經濟日報14日報導，南韓產業通商資源部（The Ministry of Trade, Industry and Energy，MOTIE）13日宣布，ASML未來4年將在南韓投資2,400億韓圜（2.1億美元），於京畿道華城市打造EUV微影設備聚落，當中包括一座再製廠房、一家訓練中心。
ASML是全球唯一EUV微影設備供應商，是5奈米先進製程的關鍵設備。MOTIE及京畿道政府將針對ASML的授權、擴張當地業務事宜提供協助。上述設施預計2025年底前落成，未來將在南韓聘用超過300名專才。
ASML位於南韓的再製造中心（re-
ASML一年只能生產30台EUV微影設備。據聞，台積電已取得50台EUV設備，三星僅10台。
半導體蝕刻機台製造商科林研發公司（Lam Research Corp.）也將擴大投資南韓。報導引述業界消息指出，科林已將南韓的生產目標提高一倍，正在尋找地點建立新廠以便擴充產能。
韓媒etnews 4月12日引述業界消息報導，想要打造半導體生產線，一定要設法取得前端製程的關鍵設備。應材、科林、東京威力科創（TEL）及ASML是全球前四大半導體設備業者，合併市佔高達60-70%。問題是，半導體設備廠每年只能生產一定數量的機台，交貨時程早已非常緊湊。
（本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載；首圖來源：ASML）
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